[发明专利]为棋盘格图像获取模板的系统和方法

权利要求书

1.一种为棋盘格图像选择模板图像的方法，该方法包括：

使用来自所述棋盘格图像的样本区域图像来分析所述棋盘格图像，以确定所述模板图像的模板单元尺寸；

定义像素分析线段，所述像素分析线段被配置为至少部分地基于所述模板单元尺寸来识别所述模板图像的模板单元边界；以及

至少部分地基于使用所述像素分析线段识别的所述模板单元边界，来选择所述模板图像；

分析所述棋盘格图像的像素，所述棋盘格图像的像素对应于所述棋盘格图像上的所述像素分析线段的多个像素分析线段的位置；以及

根据所述分析指示出与满足预定标准的所述多个像素分析线段中的像素分析线段的位置相对应的所述棋盘格图像的像素，来识别所述模板图像的模板单元边界。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述模板单元尺寸和所述模板单元边界对应于所述棋盘格图像的图案单元。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，使用来自所述棋盘格图像的样本区域图像来分析所述棋盘格图像以确定模板单元尺寸包括：

对所述样本区域图像和所述棋盘格图像进行卷积处理；

从所述卷积处理的结果中，识别出对应于所述棋盘格源图像的推定图案单元的位置的一个或多个峰；以及

基于所述一个或多个峰的间距确定所述模板单元的尺寸。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，识别出对应于所述棋盘格源图像的推定图案单元的位置的一个或多个峰包括：

分析所述卷积处理的结果，以识别局部最大峰值。

5.根据权利要求3所述的方法，其中，基于一个或多个峰的间距来确定所述模板单元的尺寸包括：

关于与所述推定图案单元在水平和垂直方向上的位置对应的所述一个或多个峰的峰间距，进行向量统计分析，以获得所述模板单元尺寸。

6.根据权利要求3所述的方法，还包括：

评估对应于所述推定图案单元位置的所述一个或多个峰的方位，以确定对应于所述推定图案单元的位置的所述一个或多个峰是否在几何法线位置。

7.根据权利要求3所述的方法，还包括：

确定对应于所述推定图案单元位置的所述一个或多个峰的数量是否满足一个预定阈值；以及

如果所述一个或多个峰的数量满足所述预定阈值，则继续确定所述模板单元尺寸；或者

如果所述一个或多个峰的数量不满足所述预定阈值，则从所述棋盘格图像中选择一个不同尺寸的样本区域图像，并重复分析棋盘格图像，以使用所述不同大小的样本区域图像来确定所述模板图像的所述模板单元大小。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述不同尺寸的样本区域图像的尺寸小于所述样本区域图像的尺寸。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，基于所述分析指示出与满足预定标准的所述多个像素分析线段中的像素分析线段的位置相对应的所述棋盘格图像的像素，来识别所述模板图像的模板单元边界包括：

确定与所述多个像素分析线段的位置相对应的所述棋盘格图像的像素的直方图数据具有相同的属性。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，至少部分地基于所述模板单元尺寸来配置所述多个像素分析线段。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述多个像素分析线段包括多个水平像素分析线段，所述多个水平像素分析线段在垂直方向上间隔开，间距为所述模板单元尺寸的高度。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述多个水平像素分析线段的长度大于所述模板单元尺寸的宽度。

13.根据权利要求10所述的方法，其中，所述多个像素分析线段包括多个垂直像素分析线段，所述多个垂直像素分析线段在水平方向上间隔开，间距为所述模板单元尺寸的宽度。