[发明专利]微波处理装置

说明书

微波处理装置具有：处理室，其收纳被加热物；微波供给部，其向处理室供给微波；以及谐振部，其在微波的频带中具有谐振频率。谐振部具有多个贴片谐振器，该多个贴片谐振器配置成沿着在构成处理室的金属壁面上产生的偏振面的方向排列至少3个贴片谐振器。根据本方式，能够对处理室内的驻波分布、即微波能量分布进行控制。

技术领域

本公开涉及微波处理装置。

背景技术

作为微波处理装置的代表例的微波炉将由磁控管放射的微波供给至被金属壁面包围的处理室内，对处理室内所载置的食品等被加热物进行介电加热。

微波在处理室的壁面上反复反射。在金属壁面上反射的反射波的相位相对于向金属壁面入射的入射波发生180度的变化。当设与金属壁面垂直的线为基准线时，作为基准线与入射波之间的角度的入射角和作为反射波与基准线之间的角度的反射角相同。

处理室的大小通常充分大于微波的波长(大约120mm)。因此，由于在金属壁面产生的入射波和反射波的行为，在处理室内产生驻波。驻波具有始终在电场较强的场所出现的波腹和始终在电场较弱的场所出现的波节。

当将被加热物载置于驻波的出现波腹的场所时，被加热物被较强地加热，当将被加热物载置于驻波的出现波节的场所时，被加热物不怎么被加热。这是在微波炉中产生加热不均的主要原因。

对于抑制由于这样的驻波引起的加热不均并促进均匀加热的方法，存在使载台旋转而使被加热物旋转的转台方式、和使放射微波的天线旋转的旋转天线方式。

还存在想积极地利用与均匀加热相反的局部加热的技术(例如，参照非专利文献1)。非专利文献1所记载的装置具有由GaN半导体元件构成的多个微波产生装置，将微波产生装置的输出从各种场所供给至处理室。通过对被供给的两个微波设置相位差，使微波集中于被加热物而实现局部加热。

现有技术文献

非专利文献

非专利文献1：国立研究開発法人新エネルギー·産業技術総合開発機構ほか「GaN増幅器モジュールを加熱源とする産業用マイクロ波加熱装置を開発」2016年1月25日

发明内容

但是，在上述现有的微波处理装置中，需要从多个部位向处理室供给微波，因此，装置复杂并且大型化。

在对多个被加热物同时进行加热的情况下，即使想使微波集中于一方的被加热物，该被加热物也不会吸收全部微波。未被该被加热物吸收的微波入射到另一方的被加热物。因此，难以如期望地对多个被加热物进行局部加热。

本公开的目的在于提供一种能够通过对处理室内的驻波分布进行控制来对多个被加热物分别如期望地进行加热的微波处理装置。

本公开的一个方式的微波处理装置具有：处理室，其收纳被加热物；微波供给部，其向处理室供给微波；以及谐振部，其在微波的频带中具有谐振频率。谐振部包括多个贴片谐振器，该多个贴片谐振器配置成沿着在构成处理室的金属壁面上产生的偏振面中的至少一个偏振面的方向排列至少3个贴片谐振器。所述至少3个贴片谐振器包括两端的贴片谐振器和中央的贴片谐振器，所述中央的贴片谐振器以使得所述中央的贴片谐振器中产生的电流向量与所述两端的贴片谐振器中产生的所述电流向量方向相反的方式，配置在所述两端的贴片谐振器之间。

本方式的微波处理装置能够对处理室内的驻波分布、即微波能量分布进行控制。其结果，例如，在对多个被加热物同时进行加热的情况下，本方式的微波处理装置能够调整各被加热物所吸收的微波能量。

附图说明

图1是示出本公开实施方式1的微波处理装置的结构的立体图。

图2是示出实施方式1中的谐振部的结构的俯视图。

图3A是示出由谐振部产生的反射相位的频率特性的图。