[发明专利]等离子处理装置在审

专利信息
申请号: 201980005152.1 申请日: 2019-08-05
公开(公告)号: CN112616320A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 森功;伊泽胜;安井尚辉;池田纪彦;山田一也 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 柯瑞京
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 等离子 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种等离子处理装置,其具备:对试样进行等离子处理的处理室;供给用于生成等离子的高频电力的第一高频电源;载置所述试样的试样台;以及向所述试样台供给高频电力的第二高频电源,所述等离子处理装置的特征在于,还具备:

直流电源,其将直流电压施加给所述试样台,所述直流电压通过周期性重复的波形而变化,

一个周期的所述波形具有在给定时间变化给定量以上的振幅的期间。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述振幅的变化时间以及变化量是使通过所述波形在所述试样产生的电流的最大值的10%以上持续1ms以上的振幅的变化时间以及变化量。

3.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述波形是三角波。

4.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述试样台具备:用于使所述试样静电吸附的电极,

所述直流电压被施加于所述电极。

5.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

当正对所述试样台施加所述直流电压时,将向所述试样台供给的高频电力供给到所述试样台。

6.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述波形的频率是500Hz以下。

7.根据权利要求1所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述波形是矩形波,

所述矩形波的上升以及下降的时间常数分别是0.43ms以上。

8.根据权利要求3或7所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述直流电压上升的时间相对于所述直流电压下降的时间之比,是通过从1减去值D所得的值除所述值D而得的值,

所述值D是通过所述试样上的电介质内的电子的移动性与所述电介质内的离子的移动性之和除所述离子的移动性而得的值。

9.根据权利要求8所述的等离子处理装置,其特征在于,

所述波形的频率是,当以Hz为单位时,将从1减去所述值D所得的值或者所述值D的某个小的值设为1000倍而得的值。

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