[发明专利]净化方法、净化装置和净化系统在审
申请号: | 201980005297.1 | 申请日: | 2019-02-08 |
公开(公告)号: | CN111263645A | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 坂口義弘;池岛博子 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
主分类号: | A61L2/20 | 分类号: | A61L2/20;G01N21/64 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 蒋巍 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 净化 方法 装置 净化系统 | ||
1.一种净化方法,其中,
对测定区域照射激发光,
检测来自所述测定区域的荧光,
基于所述荧光的强度,测定所述测定区域中包含的氨基酸的量,
在所述氨基酸的量超过第一阈值的情况下,向所述测定区域释放药剂。
2.根据权利要求1所述的净化方法,其中,
在测定所述氨基酸的量后,进一步
取得与所述测定区域中包含的所述氨基酸的量对应的污染度水平,
在所述释放中,在所述污染度水平超过第二阈值的情况下,基于根据所述污染度水平所决定的发射控制参数,向所述测定区域释放所述药剂。
3.根据权利要求2所述的净化方法,其中,
在所述释放中,进一步通过参照将所述污染度水平与所述发射控制参数建立了对应的对应信息,决定所述发射控制参数。
4.根据权利要求1所述的净化方法,其中,
进一步在所述释放前,取得净化所述测定区域的命令。
5.根据权利要求4所述的净化方法,其中,
在所述释放中,取得所述命令后,在所述氨基酸的量小于所述第一阈值的情况下,中止所述药剂的释放。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的净化方法,其中,
在所述释放中,将由含有所述药剂的气体形成的涡环向所述测定区域发射。
7.根据权利要求2或3所述的净化方法,其中,
在所述释放中,将由含有所述药剂的气体形成的涡环向所述测定区域发射,
所述发射控制参数是从由所述涡环的发射次数、所述涡环的速度以及所述药剂的浓度组成的组中选择的至少一个。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的净化方法,其中,
所述测定区域是门把手或呕吐物的擦拭痕迹。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的净化方法,其中,
所述释放的所述药剂与所述测定区域接触的范围的直径为5cm以上50cm以下。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的净化方法,其中,
在所述测定中,进一步基于所述激发光的波长和所述荧光的波长的组合,测定所述氨基酸的量。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的净化方法,其中,
进一步监视用户对所述测定区域中包含的物体的接触动作,
在所述测定中,在所述用户结束所述接触动作后,测定所述测定区域的所述氨基酸的量。
12.一种净化方法,其中,
依次执行多个记录工序,
在所述多个记录工序的各个记录工序中,对测定区域照射激发光,检测来自所述测定区域的荧光,基于所述荧光的强度测定所述测定区域中的氨基酸的量,取得与所述氨基酸的量对应的污染度水平,使用将污染度水平与药剂的发射控制参数建立了关联的对应信息,将与所述取得的污染度水平对应的所述发射控制参数记录在存储部中,
取得净化所述测定区域的命令,
在取得所述命令后,用所述多个记录工序中的最后执行的记录工序中记录的所述发射控制参数对所述测定区域释放所述药剂。
13.根据权利要求12所述的净化方法,其中,
在所述释放中,进一步,在取得所述命令前,所取得的污染度水平超过阈值的情况下,利用所述多个记录工序中的最后执行的记录工序中记录的所述发射控制参数,对所述测定区域释放所述药剂。
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