[发明专利]制备负载型混杂茂金属催化剂的方法

权利要求书

1.一种制备负载型混杂茂金属催化剂的方法，包括以下步骤：

将至少一种第一茂金属化合物负载在氧化硅载体上；

通过使负载有第一茂金属化合物的氧化硅载体与至少一种基于铝的助催化剂化合物接触来负载基于铝的助催化剂化合物；和

将至少一种第二茂金属化合物负载在负载有基于铝的助催化剂的氧化硅载体上；

其中，所述的基于铝的助催化剂通过分开输入的方法被负载在氧化硅载体上，其中，在100℃至150℃的温度下首先添加全部输入的50重量％至90重量％，其次在-5℃至40℃的温度下添加全部输入的剩余部分。

2.根据权利要求1所述的制备负载型混杂茂金属催化剂的方法，其中，基于1g的氧化硅载体，第一茂金属化合物或第二茂金属化合物的负载量分别是0.01mmol/g至1mmol/g。

3.根据权利要求1所述的制备负载型混杂茂金属催化剂的方法，其中，第一茂金属化合物和第二茂金属化合物分别由以下化学式1至5之一表示：

[化学式1]

(Cp¹R^a)_n(Cp²R^b)M¹Z¹_3-n

在化学式1中，

M¹是第4族过渡金属；

Cp¹和Cp²彼此相同或不同，并且各自独立地选自环戊二烯基、茚基、4,5,6,7-四氢-1-茚基和芴基，并且其可以被C1-C20烃取代；

R^a和R^b彼此相同或不同，并且各自独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C10烷氧基、C2-C20烷氧基烷基、C6-C20芳基、C6-C10芳氧基、C2-C20烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C8-C40芳基烯基或C2-C10炔基，条件是R^a和R^b中的至少一个不是氢；

Z¹各自独立地是卤素、C1-C20烷基、C2-C10烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C6-C20芳基、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的氨基、C2-C20烷基烷氧基或C7-C40芳基烷氧基；以及

n为1或0；

[化学式2]

(Cp³R^c)_mB¹(Cp⁴R^d)M²Z²_3-m

在化学式2中，

M²是第4族过渡金属；

Cp³和Cp⁴彼此相同或不同，并且各自独立地选自环戊二烯基、茚基、4,5,6,7-四氢-1-茚基和芴基，并且其可以被C1-C20烃取代；

R^c和R^d彼此相同或不同，并且各自独立地为氢、C1-C20烷基、C1-C10烷氧基、C2-C20烷氧基烷基、C6-C20芳基、C6-C10芳氧基、C2-C20烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C8-C40芳基烯基或C2-C10炔基；

Z²各自独立地是卤素、C1-C20烷基、C2-C10烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C6-C20芳基、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的氨基、C2-C20烷基烷氧基或C7-C40芳基烷氧基；

B¹是使Cp³R^c环和Cp⁴R^d环交联或使一个Cp⁴R^d环交联到M²的一个或多个包括碳、锗、硅、磷或氮原子的自由基或其组合；以及

m为1或0；

[化学式3]

(Cp⁵R^e)B²(J)M³Z³₂

在化学式3中，

M³是第4族过渡金属；

Cp⁵选自环戊二烯基、茚基、4,5,6,7-四氢-1-茚基和芴基，并且其可以被C1-C20烃取代；

R^e是氢、C1-C20烷基、C1-C10烷氧基、C2-C20烷氧基烷基、C6-C20芳基、C6-C10芳氧基、C2-C20烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C8-C40芳基烯基或C2-C10炔基；

Z³各自独立地为卤素、C1-C20烷基、C2-C10烯基、C7-C40烷基芳基、C7-C40芳基烷基、C6-C20芳基、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的氨基、C2-C20烷基烷氧基或C7-C40芳基烷氧基；

B²是使Cp⁵R^e环与J交联的一个或多个包括碳、锗、硅、磷或氮原子的自由基或其组合；以及

J选自NR^f、O、PR^f和S，其中R^f各自独立地为C1-C20烷基、芳基、取代的烷基或取代的芳基，

[化学式4]

在化学式4中，

R¹至R⁴和R^1'至R^4'彼此相同或不同，并且各自独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C6-C20芳基、C7-C20烷基芳基、C7-C20芳基烷基或C1-C20胺基，以及R¹至R⁴和R^1'至R^4'的两个或更多个相邻基团可以彼此连接形成一个或多个脂族环、芳族环或杂环；

Q¹和Q²彼此相同或不同，并且各自独立地为氢、C1-C20烷基、C3-C20环烷基、C1-C20烷氧基、C6-C20芳基、C6-C10芳氧基、C2-C20烯基、C7-C40烷基芳基或C7-C40芳基烷基；

B³为C2-C20亚烷基、C3-C20亚环烷基、C6-C20亚芳基、C7-C40烷基亚芳基或C7-C40的芳基亚烷基；

M⁴是第4族过渡金属；以及

Z⁴和Z⁵彼此相同或不同，并且各自独立地为卤素、C1-C20烷基、C2-C10烯基、C6-C20芳基、硝基、酰胺基、C1-C20烷基甲硅烷基、C1-C20烷氧基或C1-C20磺酸酯基；

[化学式5]

在化学式5中，

R⁵和R^5'各自独立地为氢、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C6-C20芳基、C6-C20甲硅烷基、C7-C20烷基芳基、C7-C20芳基烷基或被烃基取代的第4族金属的准金属，R⁵和R^5′或两个R^5′可以通过包括C1-C20烷基或C6-C20芳基的亚烷基彼此连接形成环；

R⁶各自独立地为氢、卤素、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C6-C20芳基、C7-C20烷基芳基、C7-C20芳基烷基、C1-C20烷氧基、C6-C20芳氧基或酰胺基，以及R⁶的两个或更多个基团可以相互连接而形成脂肪族环或芳族环；

CY¹是取代或未取代的脂族环或芳族环，并且CY¹的取代基是卤素、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C6-C20芳基、C7-C20烷基芳基、C7-C20芳基烷基、C1-C20烷氧基、C6-C20芳氧基或酰胺基，其中当存在多个取代基时，两个或更多个取代基可以彼此连接形成脂族环或芳族环；

M⁵是第4族过渡金属；以及

Q³和Q⁴独立地是卤素、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C6-C20芳基、C7-C20烷基芳基、C7-C20芳基烷基、C1-C20烷基酰胺基、C6-C20芳基酰胺基或C1-C20亚烷基。