[发明专利]试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法有效

专利信息
申请号: 201980006760.4 申请日: 2019-01-08
公开(公告)号: CN111512150B 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 申请(专利权)人: 浜松光子学株式会社
主分类号: G01N27/62 分类号: G01N27/62;G01N27/626;H01J49/04
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 杨琦;王昊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 试样 支承 制造 方法 离子化
【权利要求书】:

1.一种用于试样的离子化的试样支承体,其特征在于:

包括:具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板;和

至少设置于所述第一表面的导电层,

在所述基板和所述导电层,形成有在所述导电层的与所述基板相反的一侧的第三表面和所述第二表面开口的多个贯通孔,

在所述第二表面和所述第三表面的至少一者,进行用于使对水的亲和性在所述第二表面侧的面与所述第三表面侧的面之间彼此不同的表面处理。

2.如权利要求1所述的试样支承体,其特征在于:

在所述第二表面设置有疏水性的涂层,使得与所述第二表面侧的面相比,所述第三表面侧的面对水的亲和性较高。

3.如权利要求1或2所述的试样支承体,其特征在于:

对所述第三表面和所述贯通孔的包含所述第三表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理,使得与所述第二表面侧的面相比,所述第三表面侧的面对水的亲和性较高,

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第三表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第三表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

4.如权利要求1所述的试样支承体,其特征在于:

对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行用于提高对水的亲和性的表面处理,使得与所述第三表面侧的面相比,所述第二表面侧的面对水的亲和性较高,

所述用于提高对水的亲和性的表面处理包括在所述第二表面和所述部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者。

5.如权利要求1或4所述的试样支承体,其特征在于:

在所述第三表面设置有疏水性的涂层,使得与所述第三表面侧的面相比,所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

6.如权利要求1~5中任一项所述的试样支承体,其特征在于:

所述基板通过对阀金属或硅进行阳极氧化而形成。

7.如权利要求1~6中任一项所述的试样支承体,其特征在于:

所述贯通孔的宽度为1nm~700nm。

8.如权利要求1~7中任一项所述的试样支承体,其特征在于:

所述导电层的材料是铂或金。

9.一种试样支承体,用于试样的离子化,其特征在于:

具有基板,其具有导电性,形成有在彼此相对的第一表面和第二表面开口的多个贯通孔,

对所述第一表面和所述第二表面的至少一者,进行用于使对水的亲和性在所述第一表面侧的面与所述第二表面侧的面之间不同的表面处理,

所述表面处理是:

包括在所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第一表面和所述贯通孔的包含所述第一表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理,其能够使得与所述第二表面侧的面相比,所述第一表面侧的面对水的亲和性较高,或者,

包括在所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面设置亲水性的涂层、以及对所述第二表面和所述贯通孔的包含所述第二表面侧的缘部的部分的内表面进行受激准分子照射或等离子体照射的至少一者的处理,其能够使得与所述第一表面侧的面相比,所述第二表面侧的面对水的亲和性较高。

10.如权利要求3、4或9所述的试样支承体,其特征在于:

所述亲水性的涂层是通过氧化钛或氧化锌的成膜而形成的层。

11.如权利要求2或5所述的试样支承体,其特征在于:

所述疏水性的涂层是通过金属的蒸镀而形成的层或由自组单分子膜形成的层。

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