[发明专利]光致抗蚀剂去除剂组合物在审

申请号：	201980006788.8	申请日：	2019-01-23
公开（公告）号：	CN111512239A	公开（公告）日：	2020-08-07
发明（设计）人：	R·阿伦特;吴恒鹏;林观阳	申请（专利权）人：	默克专利股份有限公司
主分类号：	G03F7/42	分类号：	G03F7/42
代理公司：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038	代理人：	陈晰
地址：	德国达***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	光致抗蚀剂去除组合
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【权利要求书】：

1.组合物，其基本上由或由以下物质组成：

选自樟脑磺酸和结构(I)的苯磺酸的磺酸组分，其中R为H或C-1至C-18正烷基；

和

具有结构(II)的二羧酸，

溶剂组分，其基本上由有机溶剂组分或有机溶剂组分与水的混合物组成，其中所述有机溶剂组分占所述溶剂组分的约100wt％至约85wt％，和进一步其中所述有机溶剂组分或选自由溶剂(III),(IV),(V),(VI)(其中R选自-(-O-CH₂-CH₂-)_n’-OH,-OH和-O-C(＝O)-CH₃，其中n’等于1、2、3或4),(VII)(其中Ra为H或C-1至C-4烷基基团),(VIII),(IX)(其中Rb为C-1至C-18烷基基团),(X)和(XI)组成的组，或为选自该组的至少两种有机溶剂的混合物

二丙二醇单甲基醚(III),

2.组合物，其包含以下物质，基本上由或由以下物质组成：

选自樟脑磺酸和结构(I)的苯磺酸的磺酸组分，其中R为H或C-1至C-18正烷基；

和

具有结构(II)的二羧酸，

溶剂组分，其包含有机溶剂组分或有机溶剂组分与水的混合物，或基本上由或由有机溶剂组分或有机溶剂组分与水的混合物组成，其中有机溶剂组分占所述溶剂组分的约100wt％至约85wt％，和进一步其中所述有机溶剂组分或选自由溶剂(III),(IV),(V),(VI)(其中R选自-(-O-CH₂-CH₂-)_n’-OH,-OH和-O-C(＝O)-CH₃，其中n’等于1、2、3或4),(VII)(其中Ra为H或C-1至C-4烷基基团),(VIII),(IX)(其中Rb为C-1至C-18烷基基团),(X)和(XI)组成的组，或为选自该组的至少两种有机溶剂的混合物；

二丙二醇单甲基醚(III),

和表面活性剂。

3.根据权利要求2的组合物，其中所述表面活性剂为具有结构(XIII)的聚合物表面活性剂，其中n”’为聚合物重复单元的数目和na为CH₂间隔基团的数目，其为8-14的整数

4.根据权利要求3的组合物，其中所述聚合物表面活性剂具有结构(XIIIa)

5.权利要求2的组合物，其中所述表面活性剂为具有结构(XIII)的表面活性剂

CH₃-(CH₂)₁₁-CH₂-OH(XIII)。

6.根据权利要求2-5任一项的组合物，其中所述表面活性剂以约0.005wt％至约3wt％存在。

7.根据权利要求1-6任一项的组合物，其中所述磺酸组分为樟脑磺酸。

8.根据权利要求1-6任一项的组合物，其中所述磺酸组分为苯磺酸。

9.根据权利要求1-6任一项的组合物，其中所述磺酸组分为甲苯磺酸。

10.根据权利要求1-6任一项的组合物，其中所述磺酸组分为结构(I)的苯磺酸。

11.根据权利要求1-6或10任一项的组合物，其中所述磺酸组分为结构(Ia)的烷基苯磺酸，其中n为0-16的整数；