[发明专利]氢纯化设备

权利要求书

1.一种氢纯化设备，包括：

第一端部框架和第二端部框架，其包括：

输入端口，其构造为接收包含氢气和其他气体的混合气体流；

输出端口，其构造为接收渗透流，所述渗透流包含比所述混合气体流更高浓度的氢气和更低浓度的所述其他气体中的至少一个；和

副产物端口，其构造为接收包含至少大部分所述其他气体的副产物流；

至少一个箔片微孔筛网装置，其设置在所述第一端部框架和所述第二端部框架之间并固定至所述第一端部框架和所述第二端部框架，所述至少一个箔片微孔筛网装置包括：

至少一个氢选择性膜，其具有进料侧和渗透侧，所述渗透流的至少一部分由所述混合气体流的从所述进料侧穿透到所述渗透侧的部分形成，而所述混合气体流的保留在所述进料侧的其余部分形成了所述副产物流的至少一部分；和

至少一个微孔筛网结构，其包括具有形成多个流体通道的多个孔的非多孔平面片，所述平面片包括相对的平面表面，所述平面表面构造为向所述渗透侧提供支撑，所述多个流体通道在所述相对的表面之间延伸，其中所述至少一个氢选择性膜冶金结合到所述至少一个微孔筛网结构；以及

多个框架，其设置在所述第一端部框架和所述第二端部框架与所述至少一个箔片微孔筛网装置之间并固定至所述第一端部框架和所述第二端部框架，所述多个框架中的每一个框架包括限定开放区的周边壳体，

其中所述多个孔设置在所述非多孔平面片上，使得所述平面片的至少周边部分不具有所述多个孔；并且，其中所述非多孔平面片包括具有所述多个孔的两个或更多个离散部分；其中所述至少一个氢选择性膜包括两个或更多个氢选择性膜，并且其中所述两个或更多个氢选择性膜中的不同的氢选择性膜冶金结合到所述两个或更多个离散部分中的每一个离散部分。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述两个或更多个离散部分的每一个离散部分与所述两个或更多个离散部分中的相邻离散部分通过不具有所述多个孔的至少一个边界部分隔开。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述两个或更多个氢选择性膜中的每一个氢选择性膜的尺寸设定为大于相应的离散部分，使得所述氢选择性膜的周边部分接触所述非多孔平面片的不包括所述多个孔的一个或多个部分。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个氢选择性膜扩散结合到所述至少一个微孔筛网结构。