[发明专利]微波加热方法、微波加热装置和化学反应方法有效

专利信息
申请号: 201980008403.1 申请日: 2019-02-07
公开(公告)号: CN111602465B 公开(公告)日: 2022-11-29
发明(设计)人: 渡边雄一;植村圣;西冈将辉;宫川正人;中村考志 申请(专利权)人: 国立研究开发法人产业技术综合研究所
主分类号: H05B6/64 分类号: H05B6/64;H05B6/74;H05B6/78;H05B6/80
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 张智慧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 微波 加热 方法 装置 化学反应
【权利要求书】:

1.微波加热方法,是利用微波的微波加热方法,其中,控制所述微波的频率以形成单模驻波;将被加热对象物配置在采用所述单模驻波所形成的磁场强度变得均匀且极大的磁场区域;采用通过所述磁场区域的磁场作用而产生的磁损耗引起的磁发热、和/或通过所述磁场区域的磁场而在所述被加热对象物内所产生的感应电流引起的感应加热,将所述被加热对象物加热,

所述被加热对象物为配置在基材上的电极图案和器件的电接合用电极,

将所述电极图案的长轴方向的至少一部分相对于用所述单模驻波所形成的磁场的振动方向成45度以上且90度以下的角度而配置,对该电极图案进行微波加热。

2.微波加热方法,是利用微波的微波加热方法,其中,控制所述微波的频率以形成单模驻波;将被加热对象物配置在采用所述单模驻波所形成的磁场强度变得均匀且极大的磁场区域;采用通过所述磁场区域的磁场作用而产生的磁损耗引起的磁发热、和/或通过所述磁场区域的磁场而在所述被加热对象物内所产生的感应电流引起的感应加热,将所述被加热对象物加热,

所述被加热对象物为配置在基材上的电极图案和器件的电接合用电极,

在所述电极图案的上部和下部具有绝缘性的薄膜,

所述微波加热方法具备前段工序和后段工序,所述前段工序包括:在所述基材上印刷底漆·粘接层的工序和该底漆·粘接层的干燥工序、电极图案的印刷工序和该电极图案的干燥工序、焊料糊剂涂布工序、器件搭载工序和微波照射条件判定工序,所述后段工序包括:助熔剂除去工序、粘接剂涂布工序和该粘接剂的固化工序,

采用搬运机构将所述基材连续地搬运,依次进行所述前段工序、采用实施所述微波加热方法的微波加热装置的微波加热工序、和所述后段工序。

3.微波加热方法,是利用微波的微波加热方法,其中,控制所述微波的频率以形成单模驻波;将被加热对象物配置在采用所述单模驻波所形成的磁场强度变得均匀且极大的磁场区域;采用通过所述磁场区域的磁场作用而产生的磁损耗引起的磁发热、和/或通过所述磁场区域的磁场而在所述被加热对象物内所产生的感应电流引起的感应加热,将所述被加热对象物加热,

所述被加热对象物为配置在基材上的电极图案和器件的电接合用电极,将所述电极图案和所述电接合用电极加热,将配置在所述电极图案上的焊料加热、熔融,

所述微波加热方法包括:

在所述基材上经由底漆配置所述电极图案的工序,和

在所述电极图案上经由所述焊料将形成于所述器件的所述电接合用电极连接并且在所述电极图案间的所述基材上经由粘接层将所述器件粘接的工序;

在所述器件的周围形成粘接剂。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的微波加热方法,其中,所述单模驻波为TMn10模式或TE10n模式,其中n为1以上的整数。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的微波加热方法,其中,产生所述单模驻波的谐振器为圆筒谐振器或方筒谐振器,在产生所述单模驻波的谐振器的腔体壁的相面对的位置具备入口和出口,具有从所述入口将所述被加热对象物搬入、从所述出口将所述被加热对象物搬出的搬运机构,将所述电极图案的长轴方向的至少一部分相对于用所述单模驻波所形成的磁场的振动方向成45度以上且90度以下的角度而配置,对该电极图案进行微波加热。

6.根据权利要求5所述的微波加热方法,其中,测出与根据配置在所述谐振器内的所述被加热对象物的配置状态而变动的所述单模驻波一致的共振频率,将所述微波调节至与该共振频率一致的频率,向所述谐振器内照射。

7.根据权利要求6所述的微波加热方法,其中,计量来自所述谐振器内的微波照射空间的反射波,基于该反射波的计量信号,由使该反射波成为极小的所述微波的频率测出与所述单模驻波一致的共振频率,控制所述微波的频率。

8.根据权利要求6所述的微波加热方法,其中,计量所述谐振器内的微波照射空间的能量密度,基于该能量密度的计量信号,由使该能量密度成为极大的所述微波的频率测出与所述单模驻波一致的共振频率,控制所述微波的频率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立研究开发法人产业技术综合研究所,未经国立研究开发法人产业技术综合研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980008403.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top