[发明专利]光不稳定的巴比妥酸酯化合物

权利要求书

1.一种可聚合组合物，所述可聚合组合物包含可聚合组分和氧化还原引发体系以及任选的季铵卤化物，所述氧化还原引发体系包含：

a)参与氧化还原循环的过渡金属络合物；

b)氧化剂

下式的光不稳定还原剂：

其中

R¹、R²和R³各自独立地为H、C_1-18烃基；并且

a)R^光为光不稳定基团。

2.根据权利要求1所述的可聚合组合物，其中所述光不稳定基团R^光选自苯甲酰甲基基团、2-烷基苯甲酰甲基基团、亚乙基桥接的苯甲酰甲基基团、对羟基苯甲酰甲基基团、苯偶姻基团、邻或对硝基苄基基团、邻硝基-2-苯乙基氧基羰基基团、香豆素-4-基甲基基团、苄基基团、邻或对羟基苄基基团、邻或对羟基萘基基团、2,5-二羟基苄基基团、9-苯基噻吨基、9-苯基呫吨基基团、蒽醌-2-基基团、8-卤代-7-羟基喹啉-2-基甲基基团和新戊酰基乙二醇基团。

3.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，其中所述过渡金属络合物具有下式：

[ML_p]ⁿ⁺A^-，其中M为参与氧化还原循环的过渡金属，

L为配体，A-为阴离子，n为所述过渡金属上的整数值为1至7，优选地1至3的形式电荷，并且p为所述过渡金属上的数值为1至9，优选地1至2的配体数目。

4.根据权利要求3所述的可聚合组合物，其中M选自Cu、Fe、Ru、Cr、Mo、Pd、Ni、Pt、Mn、Rh、Re、Co、V、Au、Nb和Ag。

5.根据权利要求4所述的可聚合组合物，其中M选自铜、铁、钴和铂。

6.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，其中基于所述可聚合组合物的100重量份的所述可聚合组分计，所述氧化还原引发剂体系以0.05重量份至约10重量份的量存在于所述组合物中。

7.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，其中所述可聚合组合物还包含第二还原剂，所述第二还原剂选自叔胺；芳族亚磺酸盐；硫脲；以及它们的混合物。

8.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，其中所述氧化还原引发剂体系的所述氧化剂选自过硫酸及其盐；过氧化物、氢过氧化物；过渡金属、过硼酸及其盐、高锰酸及其盐、过磷酸及其盐，以及它们的混合物。

9.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，所述可聚合组合物包含多于一种氧化剂。

10.根据前述权利要求中任一项所述的可聚合组合物，其中所述可聚合组分包含：

i.85重量份至100重量份的(甲基)丙烯酸酯；

ii.0重量份至15重量份的酸官能烯属不饱和单体；

iii.0重量份至10重量份的非酸官能烯属不饱和极性单体；

iv.0份至5份的乙烯基单体；以及

v.0份至5份的多官能(甲基)丙烯酸酯；

vi.基于100重量份的i)至v)计，0.1重量份至10重量份的所述氧化还原引发剂体系。

11.根据权利要求10所述的可聚合组合物，所述可聚合组合物还包含0.01份至5份的多官能(甲基)丙烯酸酯。

12.根据权利要求1-11中任一项所述的可聚合组合物，所述可聚合组合物还包含无机填料。

13.根据权利要求1-9中任一项所述的可聚合组合物，所述可聚合组合物包含一种或多种可聚合乙烯基单体和所述氧化还原引发剂体系。