[发明专利]在电镀系统中的清洁部件和方法

权利要求书

1.一种电镀设备的密封件清洁组件，包括：

臂，所述臂于第一位置和第二位置之间为可枢转的，其中所述臂绕着所述臂的中央轴为可旋转的；和

清洁头，所述清洁头包括托架部，所述托架部与所述臂的远端部耦接，所述清洁头由前部作为特征，所述前部形成为与所述电镀设备的密封件接合，其中所述清洁头沿着所述前部限定沟槽，并且其中所述清洁头限定多个流体通道，所述流体通道穿过所述清洁头，所述多个流体通道的每一个流体通道流体地通往所述沟槽的背侧，其中所述清洁头进一步包括接触销，所述接触销至少部分地延伸穿过所述沟槽，并配置为与所述密封件直接接触。

2.如权利要求1所述的电镀设备的密封件清洁组件，其中所述清洁头的所述前部至少部分地由弓形轮廓作为特征，所述弓形轮廓配置为容纳环状密封件。

3.如权利要求1所述的电镀设备的密封件清洁组件，其中所述清洁头进一步包括间隙销，所述间隙销至少部分地延伸穿过所述沟槽，并配置为在所述接触销与所述密封件直接接触时限定所述间隙销与所述密封件之间的间隙。

4.如权利要求3所述的电镀设备的密封件清洁组件，其中所述多个流体通道包括：

第一通道，所述第一通道流体地通往沿着所述沟槽的另一第一位置；和

第二通道，所述第二通道流体地通往沿着所述沟槽的另一第二位置，所述另一第二位置在所述密封件的旋转方向上从所述另一第一位置径向地偏移，其中所述间隙销位于所述另一第一位置与所述另一第二位置之间。

5.如权利要求1所述的电镀设备的密封件清洁组件，其中所述清洁头包括疏水性材料。

6.一种电镀系统，包括：

系统头，所述系统头具有转子，所述系统头配置为保持基板以进行处理；

密封件，所述密封件位于所述转子上；

头升降件，所述头升降件与所述系统头耦接并配置为定位所述系统头；和

密封件清洁组件，所述密封件清洁组件包括：

臂，所述臂在第一位置和第二位置之间为可枢转的，其中所述臂的远端部与所述系统头的内部区域垂直地对齐，其中所述臂绕着所述臂的中央轴为可旋转的；和

清洁头，所述清洁头包括托架部，所述托架部与所述臂的所述远端部耦接，所述清洁头由前部作为特征，所述前部形成为与所述密封件的内表面接合，其中所述清洁头沿着所述前部限定沟槽，并且其中所述清洁头限定多个流体通道，所述流体通道穿过所述清洁头，所述多个流体通道的每一个流体通道流体地通往所述沟槽的背侧，其中所述清洁头进一步包括接触销，所述接触销至少部分地延伸穿过所述沟槽，并且配置为在清洁操作期间与所述密封件直接接触。

7.如权利要求6所述的电镀系统，其中，当所述臂位于所述第二位置时，所述臂的所述远端部配置为使所述清洁头从缩回位置旋转而与所述密封件直接接触，所述电镀系统进一步包括扭矩控制马达，所述扭矩控制马达配置为驱动所述臂，并且在所述转子使所述密封件跨越所述清洁头旋转的同时，维持所述清洁头与所述密封件之间的接触。

8.如权利要求6所述的电镀系统，其中所述密封件以环状形式作为特征，并且其中所述清洁头的所述前部至少部分地由弓形轮廓作为特征，所述弓形轮廓配置为容纳所述密封件的内部环状侧壁。

9.如权利要求6所述的电镀系统，其中所述清洁头进一步包括间隙销，所述间隙销至少部分地延伸穿过所述沟槽，并配置为在所述接触销与所述密封件直接接触时限定所述间隙销与所述密封件之间的间隙。

10.如权利要求9所述的电镀系统，其中所述多个流体通道包括：

第一通道，所述第一通道流体地通往沿着所述沟槽的另一第一位置；和

第二通道，所述第二通道流体地通往沿着所述沟槽的另一第二位置，所述另一第二位置在所述密封件的旋转方向上从所述另一第一位置径向地偏移。