[发明专利]偏振膜和其制造方法

权利要求书

1.偏振膜，其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所表示的二硼酸和能够在水的存在下转化为该二硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)、以及硼酸(C)，其特征在于，

前述偏振膜的从表面起向内侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(α)为1~7原子%，从中心起向外侧至1μm的范围中的源自含硼化合物(B)的硼元素浓度(β)为0.1~2原子%，且

浓度(α)相对于浓度(β)之比(α/β)为1.5以上；

[化1]

式(I)中，R¹是碳原子数为1~20的2价有机基团，R¹与2个有机硼酸基通过硼-碳键连接，

其中，前述偏振膜中的硼元素浓度(α)和硼元素浓度(β)使用带气体团簇离子束枪的X射线光电子能谱器而求出。

2.根据权利要求1所述的偏振膜，其中，前述偏振膜中的源自含硼化合物(B)的硼元素含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份为0.1~3.0质量份。

3.根据权利要求1或2所述的偏振膜，其中，R¹为脂肪族基。

4.根据权利要求1或2所述的偏振膜，其中，前述偏振膜中的总硼元素含量为1.0~5.0质量%。

5.权利要求1~4中任一项所述的偏振膜的制造方法，其特征在于，在包括将聚乙烯醇膜用二色性色素染色的染色处理、和将该膜在硼酸水溶液中单轴拉伸的拉伸处理的偏振膜的制造方法中，

将源自硼酸的硼元素含量为0.5~5.0质量%的拉伸处理后的聚乙烯醇膜在含硼化合物(B)的浓度为0.1~5.0质量%的水溶液中浸渍后，使该膜在95℃以下的温度下干燥。