[发明专利]涂覆组合物

权利要求书

1.一种光学装置，包括：第一基底；设置成与所述第一基底相对的第二基底；以及存在于所述第一基底与所述第二基底之间的光调制材料，

其中在所述第一基底的面对所述第二基底的表面上形成有第一配向膜，并且在所述第二基底的面对所述第一基底的表面上形成有第二配向膜，

其中所述第一配向膜由涂覆组合物形成，所述涂覆组合物包含用于形成配向膜的物质、间隔物和纳米颗粒，

其中所述间隔物的密度小于所述纳米颗粒的密度，所述纳米颗粒堆叠在所述第一基底附近而形成凹凸，以及

所述纳米颗粒的密度在1.5g/cm³至10g/cm³的范围内，

其中所述纳米颗粒的种类为选自以下的一种或更多种：二氧化硅、氧化铝、二氧化钛、氧化锌、氧化铪、氧化锆、氧化锡、氧化铈、氧化镁、氧化镍、氧化钙和氧化钇，

其中所述第二配向膜由包含所述用于形成配向膜的物质但不包含所述间隔物和所述纳米颗粒的配向膜形成材料形成。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述用于形成配向膜的物质为用于形成摩擦配向膜的物质或用于形成光配向膜的物质。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述用于形成配向膜的物质包含选自以下中的一种或更多种：聚酰亚胺化合物、聚乙烯醇化合物、聚酰胺酸化合物、聚苯乙烯化合物、聚酰胺化合物、聚氧乙烯化合物、聚降冰片烯化合物、苯基马来酰亚胺共聚物化合物、聚乙烯基肉桂酸酯化合物、聚偶氮苯化合物、聚乙烯酰亚胺化合物、聚乙烯化合物、聚亚苯基邻苯二甲酰胺化合物、聚酯化合物、氯甲基化聚酰亚胺化合物和聚甲基丙烯酸甲酯化合物。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其中基于所述涂覆组合物，所述用于形成配向膜的物质的量为0.1重量％至10重量％。

5.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述间隔物的D50粒径为1μm或更大。

6.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述间隔物的密度在1g/cm³至5g/cm³的范围内。

7.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述纳米颗粒的密度B与所述间隔物的密度A的比率B/A在1.5至10的范围内。

8.根据权利要求1所述的光学装置，其中相对于100重量份的所述用于形成配向膜的物质，所述间隔物以0.5重量份至10000重量份的比例包含在内。

9.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述纳米颗粒的D50粒径为1μm或更小。

10.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述纳米颗粒为球形颗粒或满足以下方程式1的颗粒：

[方程式1]

LA3×SA

其中，LA为所述纳米颗粒的长轴的长度，以及SA为所述纳米颗粒的短轴的长度。

11.根据权利要求1所述的光学装置，其中相对于100重量份的所述用于形成配向膜的物质，所述纳米颗粒以0.01重量份至10000重量份的比例包含在内。

12.根据权利要求1所述的光学装置，其中所述光调制材料还包含二色性染料。