[发明专利]离子枪有效

专利信息
申请号: 201980010691.4 申请日: 2019-03-22
公开(公告)号: CN111656481B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 汤濑琢巳;寺泽寿浩 申请(专利权)人: 株式会社爱发科
主分类号: H01J27/14 分类号: H01J27/14;H01J37/08
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 崔今花;周艳玲
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 离子
【说明书】:

本发明的离子枪具备:阳极;磁极,具有与所述阳极相对的内表面、位于所述内表面的相反侧的外表面、设置在与所述阳极对应的位置上的狭缝和从所述外表面的一端朝向所述狭缝的中央延伸且形成所述狭缝的一部分的外倾斜面;和罩,至少包覆所述外表面及所述外倾斜面且由非磁性材料构造。

技术领域

本发明涉及一种离子枪。

本申请在2018年3月22日向日本提出的专利申请2018-054700号的基础上要求优先权,并在此援引其内容。

背景技术

以往,经常使用利用从离子枪引出的离子束的工艺,在各种装置中搭载有离子枪。一般而言,离子枪具有以下结构(例如,参见专利文献1):该结构在形成于磁极(阴极)的狭缝与阳极(anode)之间生成等离子体,并且经由狭缝向外部引出离子束。

专利文献1:美国专利申请公开第2012/0187843号说明书

近年来,要求通过增强离子枪的磁场强度来提高被处理体的蚀刻速率的工艺。然而,这种工艺具有因等离子体而磁极容易消耗、磁极的狭缝间隔(缺口)变宽且放电电流下降的问题。另外,还具有将消耗的电极更换为新电极的频率增加且维护性差的问题。此外,伴随磁极的消耗,产生起因于磁极材料的污染,具有对使用离子枪的工艺带来不良影响的问题。

发明内容

本发明是考虑上述情况而提出的,其目的是提供一种离子枪,该离子枪能够抑制形成于磁极上的狭缝的磨损,通过降低磁极更换频率来提高维护性,并且抑制产生起因于磁极材料的污染。

本发明的一方式的离子枪包括:阳极;磁极,具有与所述阳极相对的内表面、位于所述内表面的相反侧的外表面、设置在与所述阳极对应的位置上的狭缝和从所述外表面的一端朝向所述狭缝的中央延伸且形成所述狭缝的一部分的外倾斜面;和罩,至少包覆所述外表面及所述外倾斜面且由非磁性材料构造。

在本发明的一方式的离子枪中,所述磁极可具有从所述外倾斜面的一端朝向所述内表面延伸且形成所述狭缝的一部分的相互平行的竖直面,所述罩包覆所述竖直面。

在本发明的一方式的离子枪中,所述磁极可具有从所述内表面的一端朝向所述狭缝的中央延伸且形成所述狭缝的一部分的内倾斜面。

在本发明的一方式的离子枪中,所述罩可包括:包覆所述磁极的所述外表面的第一包覆部;和与所述第一包覆部相连且包覆所述外倾斜面的第二包覆部。

在本发明的一方式的离子枪中,所述罩可包括与所述第二包覆部相连的第三包覆部,所述第三包覆部从所述第一包覆部和所述第二包覆部所相连的部分的相反侧部分朝向所述阳极延伸。

在本发明的一方式的离子枪中,构造所述罩的所述非磁性材料可由从由碳、钛及铜组成的组中选择的材料构造。特别是,构造所述罩的所述非磁性材料优选为碳。

根据本发明的上述方式,能够抑制发生于磁极的狭缝中的磨损,通过降低磁极更换频率而提高维护性,并且抑制产生起因于磁极材料的污染。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的线性离子枪的大致结构的立体图。

图2是表示本发明的实施方式的线性离子枪的大致结构的图,是沿图1所示的A-A线的剖面图。

图3是表示本发明的实施方式的线性离子枪的主要部分的放大剖面图。

图4是表示本发明的实施方式的变形例1的线性离子枪的主要部分的放大剖面图。

图5是表示本发明的实施方式的变形例2的线性离子枪的主要部分的放大剖面图。

图6是表示本发明的实施方式的变形例3的线性离子枪的主要部分的放大剖面图。

图7是表示用于说明本发明的实施例的实验结果的图表。

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