[发明专利]干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜有效
| 申请号： | 201980010704.8 | 申请日： | 2019-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN111699212B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 中山慧美;栋泰人;川崎泰史 | 申请（专利权）人： | 三菱化学株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/04 | 分类号： | C08J7/04;C08J7/044;G03F7/11 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 干膜抗蚀层 基材 聚酯 薄膜 | ||
1.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，
该涂布层中的抗静电剂的含量为45质量％以下，
在该涂布层中含有颗粒，
相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计，粒径为30～80nm的颗粒AS的面积比率为60～99.9％的范围内，粒径为100～400nm的颗粒AL的面积比率为0.1～15％的范围内，实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
2.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，
在该涂布层中含有表面活性剂，
在该涂布层中含有颗粒，
相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计，粒径为30～80nm的颗粒AS的面积比率为60～99.9％的范围内，粒径为100～400nm的颗粒AL的面积比率为0.1～15％的范围内，实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
3.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，在涂布层中实质上不含无机盐，
在该涂布层中含有颗粒，
相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计，粒径为30～80nm的颗粒AS的面积比率为60～99.9％的范围内，粒径为100～400nm的颗粒AL的面积比率为0.1～15％的范围内，实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
4.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有涂布层，在涂布层中实质上不含聚醚化合物，
在该涂布层中含有颗粒，
相对于对该涂布层的表面进行观察时的颗粒在该涂布层表面中所占的面积总计，粒径为30～80nm的颗粒AS的面积比率为60～99.9％的范围内，粒径为100～400nm的颗粒AL的面积比率为0.1～15％的范围内，实质上不含粒径超过1μm的颗粒。
5.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有由含有交联剂的涂布液形成的涂布层，
该涂布层中的抗静电剂的含量为45质量％以下，
在该涂布层中含有颗粒A-1和颗粒A-2，
该颗粒A-1的平均粒径为0.001～0.06μm，
该颗粒A-2的平均粒径为0.06～1.0μm。
6.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有由含有交联剂的涂布液形成的涂布层，
在该涂布层中含有表面活性剂，
在该涂布层中含有颗粒A-1和颗粒A-2，
该颗粒A-1的平均粒径为0.001～0.06μm，
该颗粒A-2的平均粒径为0.06～1.0μm。
7.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有由含有交联剂的涂布液形成的涂布层，
在该涂布层中实质上不含无机盐，
在该涂布层中含有颗粒A-1和颗粒A-2，
该颗粒A-1的平均粒径为0.001～0.06μm，
该颗粒A-2的平均粒径为0.06～1.0μm。
8.一种干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其特征在于，
在聚酯薄膜的至少单面具有由含有交联剂的涂布液形成的涂布层，
在该涂布层中实质上不含聚醚化合物，
在该涂布层中含有颗粒A-1和颗粒A-2，
该颗粒A-1的平均粒径为0.001～0.06μm，
该颗粒A-2的平均粒径为0.06～1.0μm。
9.根据权利要求1～8中任一项所述的干膜抗蚀层基材用聚酯薄膜，其中，具有所述涂布层的表面的平均表面粗糙度(Ra)为1～10nm的范围内。
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