[发明专利]用于化妆品和医药的肽和组合物有效
申请号: | 201980011181.9 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN112040969B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | A·格鲁-卡普斯坦尼;P·西尔维亚;P·卡鲁亚;J·C·埃斯古德罗;J·A·波拉斯;I·德维萨吉纳;G·费尔南德斯巴勒斯特 | 申请(专利权)人: | 利波特鲁有限公司 |
主分类号: | A61K38/04 | 分类号: | A61K38/04;C07K4/12;A61K8/64;A61Q19/08;A61P21/00;A61P25/28;C07K5/11;C07K7/06 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 李程达 |
地址: | 西班*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化妆品 医药 组合 | ||
1.肽或包含所述肽的组合物、所述肽的可接受的盐和/或其混合物在制备用于预防、减少和/或消除受试者中的皮肤衰老和/或表情纹迹(sign)的化妆品中的用途,其特征在于所述肽能够干扰Munc18-突触融合蛋白1复合物相互作用并且其与SEQ ID NO:3和/或SEQ IDNO:4竞争,其中所述肽的序列为:
R1-His-Ile-Leu-Asp-Met-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:5-R2);
R1-His-Ala-Leu-Arg-Phe-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:8-R2);和/或
R1-Arg-Arg-Arg-Phe-R2(R1-SEQ ID NO:10-R2);
其中:
R1选自H、Ac、叔丁酰基、己酰基、2-甲基己酰基、环己烷羧基、辛酰基、癸酰基、月桂酰基、肉豆蔻酰基、棕榈酰基、硬脂酰基、油酰基和亚油酰基;和
R2选自H、-NH2、-OH和-SH。
2.根据权利要求1的用途,其特征在于所述肽为:
Ac-His-Ile-Leu-Asp-Met-Trp-NH2(Ac-SEQ ID NO:5-NH2);
Ac-His-Ala-Leu-Arg-Phe-Trp-NH2(Ac-SEQ ID NO:8-NH2);和/或
Ac-Arg-Arg-Arg-Phe-NH2(Ac-SEQ ID NO:10-NH2)。
3.能够干扰Munc18-突触融合蛋白1复合物相互作用的肽、其化妆品和药学上可接受的盐和/或其混合物,其特征在于所述肽与SEQ ID NO:3和/或SEQ ID NO:4竞争并且其中所述肽的序列为:
R1-His-Ile-Leu-Asp-Met-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:5-R2);
R1-His-Ala-Leu-Arg-Phe-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:8-R2);和/或
R1-Arg-Arg-Arg-Phe-R2(R1-SEQ ID NO:10-R2);
其中:
R1选自H、Ac、叔丁酰基、己酰基、2-甲基己酰基、环己烷羧基、辛酰基、癸酰基、月桂酰基、肉豆蔻酰基、棕榈酰基、硬脂酰基、油酰基和亚油酰基;和
R2选自H、-NH2、-OH和-SH。
4.根据权利要求3所述的肽,其特征在于所述肽为:
Ac-His-Ile-Leu-Asp-Met-Trp-NH2(Ac-SEQ ID NO:5-NH2);
Ac-His-Ala-Leu-Arg-Phe-Trp-NH2(Ac-SEQ ID NO:8-NH2);和/或
Ac-Arg-Arg-Arg-Phe-NH2(Ac-SEQ ID NO:10-NH2)。
5.一种组合物,其包含根据权利要求3-4中任一项的肽。
6.选自以下的肽在制备用于降低乙酰胆碱释放的药物中的用途:
R1-His-Ile-Leu-Asp-Met-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:5-R2);
R1-His-Ile-Met-Asp-Phe-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:6-R2);
R1-His-Ile-Leu-Asp-Trp-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:7-R2);
R1-His-Ala-Leu-Arg-Phe-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:8-R2);
R1-His-Ile-Met-Asp-Trp-Trp-R2(R1-SEQ ID NO:9-R2);
R1-Arg-Arg-Arg-Phe-R2(R1-SEQ ID NO:10-R2);和/或
R1-Arg-Met-Arg-Phe-R2(R1-SEQ ID NO:11-R2);
其中:
R1选自H、Ac、叔丁酰基、己酰基、2-甲基己酰基、环己烷羧基、辛酰基、癸酰基、月桂酰基、肉豆蔻酰基、棕榈酰基、硬脂酰基、油酰基和亚油酰基;和
R2选自H、-NH2、-OH和-SH。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于利波特鲁有限公司,未经利波特鲁有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980011181.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有公差补偿功能的部件
- 下一篇:部分绝缘HTS线圈