[发明专利]光谱仪、用于制造光谱仪的方法和用于运行光谱仪的方法在审

专利信息
申请号: 201980011251.0 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN111684243A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: B·斯坦;M·胡思尼克;E·鲍姆加特;F·毛赫;C·谢林;R·维斯 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/18;G01J3/26;G01J3/28;H01L27/146;G01J3/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孙云汉;刘春元
地址: 德国斯*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光谱仪 用于 制造 方法 运行
【权利要求书】:

1.一种光谱仪(100),其具有如下特征:

光学滤波器(102),用于从电磁辐射中滤出所要分析的波长范围;和

探测器(104),所述探测器具有至少一个角度敏感像素(106)、尤其是多个角度敏感像素(106),用于根据从所述光学滤波器(102)透过的透射辐射(402)的入射角来探测所述透射辐射(402)的强度。

2.根据权利要求1所述的光谱仪(100),其中所述像素(106)构造用于探测作为所述入射角的正弦函数的强度。

3.根据上述权利要求之一所述的光谱仪(100),其中所述像素(106)具有:衍射光栅(300),用于在使用所述透射辐射(402)的情况下产生具有取决于所述入射角的相位的强度图案;和传感元件(302),用于在使用所述强度图案的情况下产生表示所述强度图案的强度信号(306)。

4.根据权利要求3所述的光谱仪(100),其中所述像素(106)具有至少一个布置在所述传感元件(302)与所述衍射光栅(300)之间的中间光栅(304),用于在使用所述强度图案的情况下产生附加强度图案,其中所述传感元件(302)构造用于在使用所述附加强度图案的情况下产生所述强度信号(306)。

5.根据权利要求4所述的光谱仪(100),其中所述中间光栅构造为用于确定所述强度图案的相移的分析栅。

6.根据权利要求3至5之一所述的光谱仪(100),其中所述探测器(104)具有探测器矩阵,所述探测器矩阵具有所述像素(106)和至少一个角度敏感的其它像素,用于根据所述入射角来探测所述强度,其中所述其它像素具有:与所述衍射光栅(300)不同的另一衍射光栅,用于在使用所述透射辐射(402)的情况下产生具有取决于所述入射角的相位的另一强度图案;和另一传感元件,用于在使用所述另一强度图案的情况下产生表示所述另一强度图案的另一强度信号。

7.根据上述权利要求之一所述的光谱仪(100),其中所述光学滤波器(102)实施为光学谐振器。

8.根据上述权利要求之一所述的光谱仪(100),其中所述光学滤波器(102)和所述探测器(104)彼此组合成层复合体。

9.一种用于制造光谱仪(100)的方法(1100),其中所述方法(1100)包括如下步骤:

将用于从电磁辐射中滤出所要分析的波长范围的光学滤波器(102)与具有至少一个角度敏感像素(106)、尤其是多个角度敏感像素(106)的探测器(104)组合(1120),以便借助于一个所述像素(106)和/或多个所述像素(106)根据从所述光学滤波器(102)透过的透射辐射(402)的入射角来探测所述透射辐射(402)的强度。

10.一种用于运行根据权利要求1至8之一所述的光谱仪(100)的方法(1000),其中所述方法(1000)包括如下步骤:

对所述光学滤波器(102)进行操控(1010),以便从所述电磁辐射中滤出所要分析的波长范围;并且

响应于所述操控(1010),对表示在使用一个所述像素(106)和/或多个所述像素(106)的衍射光栅(300、304)的情况下所产生的具有取决于所述入射角的相位的强度图案的强度信号(306)进行分析(1020),以便依据所述强度图案来确定光谱。

11.一种设备(900),所述设备具有单元(910、920),所述单元被构造用于实施和/或操控根据权利要求10所述的方法(1000)。

12.一种计算机程序,所述计算机程序被构造用于实施和/或操控根据权利要求10所述的方法(1000)。

13.一种机器可读存储介质,在其上存储有根据权利要求12所述的计算机程序。

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