[发明专利]高分子化合物的制造方法

权利要求书

1.一种制造方法，其是高分子化合物的制造方法，所述制造方法含有使包含高分子化合物的溶液与包含2种以上有机溶剂的混合溶剂接触从而使高分子化合物沉淀的工序，

该2种以上有机溶剂包含相互不同的第1有机溶剂和第2有机溶剂，

该第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，该第2有机溶剂为选自溶剂A和溶剂B中的1种以上，

溶剂A：

汉森溶解度参数的极性项P1为0≤P1≤10、且汉森溶解度参数的氢键项H1为0≤H1≤10的溶剂，所述P1和H1的单位为MPa^0.5，

溶剂B：

汉森溶解度参数的极性项P2为10＜P2、和/或汉森溶解度参数的氢键项H2为10＜H2的溶剂，所述P2和H2的单位为MPa^0.5。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂B中的1种以上。

3.根据权利要求2所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂B1中的1种以上，

溶剂B1：

汉森溶解度参数的极性项P2为10＜P2、且汉森溶解度参数的氢键项H2为10＜H2的溶剂，所述P2和H2的单位为MPa^0.5。

4.根据权利要求3所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A1中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂B1中的1种以上，

溶剂A1：

汉森溶解度参数的极性项P1为0≤P1≤5、且汉森溶解度参数的氢键项H1为0≤H1≤4的溶剂，所述P1和H1的单位为MPa^0.5。

5.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上，

溶剂A2：

汉森溶解度参数的极性项P1为5＜P1≤10、且汉森溶解度参数的氢键项H1为4＜H1≤10的溶剂，所述P1和H1的单位为MPa^0.5。

7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，所述第1有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上，所述第2有机溶剂为选自溶剂A2中的1种以上。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的制造方法，其中，在所述沉淀工序后，进一步含有添加第3有机溶剂的溶剂处理工序，该第3有机溶剂为选自溶剂C中的1种以上，

溶剂C：

汉森溶解度参数的极性项P3为10＜P3、和/或汉森溶解度参数的氢键项H3为10＜H3的溶剂，所述P3和H3的单位为MPa^0.5。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的制造方法，其中，所述高分子化合物为包含式(1)所示的结构单元的高分子化合物，

式中，

Ar¹和Ar²各自独立地表示2价芳香族烃基、2价杂环基、或者2价芳香族烃基与2价杂环基键合而成的基团，这些基团任选具有取代基，存在多个Ar²的情况下，它们可以各自相同或不同，

Ar³表示1价芳香族烃基、或1价杂环基，这些基团任选具有取代基，存在多个Ar³的情况下，它们可以各自相同或不同，

a表示0～2的整数。