[发明专利]亲水性化合物的除去方法和臭气除去方法在审

专利信息
申请号: 201980011752.9 申请日: 2019-02-05
公开(公告)号: CN111683995A 公开(公告)日: 2020-09-18
发明(设计)人: 辻雅之;山中拓 申请(专利权)人: 大金工业株式会社
主分类号: C08J3/28 分类号: C08J3/28;A61L9/18;C08F6/00;C08F14/18
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 孟伟青;褚瑶杨
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 亲水性 化合物 除去 方法 臭气
【说明书】:

提供一种除去碳原子数为4~20的亲水性化合物的方法。一种亲水性化合物的除去方法,其特征在于,包括下述工序(a):对包含碳原子数为4~20的亲水性化合物的组合物照射0.1kGy~500kGy的放射线,从上述组合物中除去上述亲水性化合物。

技术领域

本发明涉及亲水性化合物的除去方法和臭气除去方法。

背景技术

已提出了在有机氯系烃、重金属离子等有害物质和环境负担化合物的分解及除去中利用放射线(例如参见非专利文献1)。

现有技术文献

非专利文献

非专利文献1:“环境负担化合物的分解及除去中的放射线利用(環境負荷化合物の分解·除去中的放射線利用)”、[在线]、2006年7月、一般财团法人高度情报科学技术研究机构(RIST)、[2017年12月4日检索]、互联网URL:http://www.rist.or.jp/atomica/data/dat_detail.php?Title_Key=08-03-03-04

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的在于提供一种除去碳原子数为4~20的亲水性化合物及臭气的方法。

用于解决课题的手段

本发明涉及一种亲水性化合物的除去方法,其特征在于,包括下述工序(a):对包含碳原子数为4~20的亲水性化合物的组合物照射0.1kGy~500kGy的放射线,从上述组合物中除去上述亲水性化合物。

上述亲水性化合物优选为选自由碳原子数为4~20的含氟羧酸及其盐以及碳原子数为4~20的含氟磺酸及其盐组成的组中的至少1种。

上述组合物优选包含聚合物。

上述聚合物优选为含氟聚合物。

本发明还涉及一种臭气除去方法,其特征在于,包括下述工序(b):从填充有对象物的密闭容器的外侧对上述对象物照射0.1kGy~500kGy的放射线,使上述对象物的臭气强度为2以下。

上述对象物优选包含聚合物。

上述聚合物优选为含氟聚合物。

发明的效果

根据本发明,可以提供一种除去碳原子数为4~20的亲水性化合物及臭气的方法。

具体实施方式

以下,对本发明进行具体说明。

本发明涉及一种亲水性化合物的除去方法(以下也称为第1方法),其特征在于,包括下述工序(a):对包含碳原子数为4~20的亲水性化合物的组合物照射0.1kGy~500kGy的放射线,从上述组合物中除去上述亲水性化合物。

第1方法中,通过照射特定剂量的放射线,能够从组合物中除去上述亲水性化合物。

作为工序(a)中的上述放射线,只要是电离性放射线就没有特别限定,可以举出电子射线、紫外线、γ射线、X射线、中子射线、高能离子等,优选电子射线或γ射线。

工序(a)中的上述放射线的照射剂量为0.1kGy~500kGy。上述照射剂量优选为250kGy以下、更优选为200kGy以下,在对象物含有聚四氟乙烯(PTFE)的情况下,进一步优选为15kGy以下。另外,优选为0.5kGy以上、更优选为1.0kGy以上。

作为工序(a)中的上述放射线的照射温度,优选为5℃~320℃、更优选为300℃以下、进一步优选为260℃以下。从经济上考虑,优选以常温照射。

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