[发明专利]产生具有全向方位角图案的天线波束的带透镜的基站天线有效
申请号: | 201980011977.4 | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN111684653B | 公开(公告)日: | 2022-04-22 |
发明(设计)人: | M·L·齐默尔曼 | 申请(专利权)人: | 康普技术有限责任公司 |
主分类号: | H01Q1/24 | 分类号: | H01Q1/24;H01Q19/06;H01Q21/20;H01Q25/00;H01Q1/22 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 曹瑾 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 具有 全向 方位角 图案 天线 波束 透镜 基站 | ||
1.一种基站天线,包括:
反射器,具有多个外部面,多个外部面被布置为面向相对方向的外部面对;
连接器端口;
多个辐射元件,被安装为从反射器的相应的外部面向外延伸,其中,辐射元件中的每一个耦合到连接器端口;以及
多个射频RF透镜,每个RF透镜被安装在辐射元件中的相应的一个的外面并与相应的辐射元件相关联;
其中,耦合到连接器端口的辐射元件的数量等于反射器的外部面的数量,
其中,每个RF透镜被配置为通过相应的RF透镜将由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF信号的第一部分向下重新定向,使得所述第一部分的量超过由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF信号的被向上重新定向的第二部分的量。
2.根据权利要求1所述的基站天线,其中,每个RF透镜被配置为当基站天线被安装以供使用时,在仰角平面中聚焦由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF能量的至少一部分。
3.根据权利要求1所述的基站天线,其中,每个RF透镜被配置为当基站天线被安装以供使用时,在方位角平面中散焦由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF能量的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的基站天线,其中,每个RF透镜被配置为当基站天线被安装以供使用时,在仰角平面中至少部分地聚焦由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF能量,同时在方位角平面中至少部分地散焦由与该RF透镜相关联的辐射元件发射的RF能量。
5.根据权利要求1-4中的任一项所述的基站天线,其中,每个辐射元件被配置为至少在5.15-5.25GHz频带中发送和接收信号。
6.根据权利要求1所述的基站天线,其中,所述多个辐射元件被配置为产生在方位角平面中具有准全向截面的天线波束。
7.根据权利要求1-2中的任一项所述的基站天线,其中,将辐射元件中的第一辐射元件平分的水平面将与辐射元件中的所述第一辐射元件相关联的RF透镜划分为上部和下部,并且其中,下部具有比上部更大的体积。
8.根据权利要求1-4和6中的任一项所述的基站天线,其中,RF透镜中的第一RF透镜的水平截面的后表面具有大致凹面的形状。
9.根据权利要求8所述的基站天线,其中,RF透镜中的第一RF透镜的竖直截面的外表面具有大致凸面的形状。
10.根据权利要求1-4和6中的任一项所述的基站天线,其中,RF透镜中的第一RF透镜的竖直截面的外表面具有大致凸面的形状。
11.根据权利要求1-4和6中的任一项所述的基站天线,其中,RF透镜中的第一RF透镜的中心部分包括多个孔。
12.根据权利要求11所述的基站天线,其中,孔中的至少一些没有自始至终延伸通过RF透镜中的所述第一RF透镜。
13.根据权利要求11所述的基站天线,其中,孔中的第一孔的深度大于孔中的第二孔的深度。
14.根据权利要求11所述的基站天线,其中,沿孔中的第一孔的纵轴取得的竖直截面的面积大于沿孔中的第二孔的纵轴取得的竖直截面的面积。
15.根据权利要求11所述的基站天线,其中,所述多个孔限定RF透镜中的每一个中的孔填充区域,并且其中,孔填充区域竖直延伸通过RF透镜中的所述第一RF透镜的中心部分。
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