[发明专利]中性极堆叠用作等离子弧控制方法的单弧级联低压涂覆枪

权利要求书

1. 一种真空等离子枪，所述真空等离子枪包括：

后枪体区段，所述后枪体区段包括电极；以及

级联区段，所述级联区段构造成连接到所述后枪体区段，

其中所述级联区段包括布置成形成中性极堆叠的多个中性极。

2.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，供应单种气体作为唯一的等离子气体源。

3.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述枪的操作电压大于65伏。

4. 根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述真空等离子枪还包括喷嘴，所述喷嘴联接到所述中性极堆叠的端部，由此所述中性极堆叠将所述电极与所述喷嘴分离。

5.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述多个中性极中的每个具有带有中心开孔的盘形状，且

其中所述多个中性极布置成使得所述中心开孔形成所述中性极堆叠的中心等离子开孔。

6.根据权利要求5所述的真空等离子枪，其特征在于，通过绝缘体使所述多个中性极彼此电气隔离。

7.根据权利要求6所述的真空等离子枪，其特征在于，所述绝缘体构造成保持相邻中性极之间的空气或气体间隙。

8.根据权利要求5所述的真空等离子枪，其特征在于，所述多个中性极中的每个包括围绕所述中心开孔的多个冷却通道。

9.根据权利要求8所述的真空等离子枪，其特征在于，所述多个冷却通道包括延伸穿过所述盘的轴向开孔。

10.根据权利要求9所述的真空等离子枪，其特征在于，所述轴向开孔界定于所述中性极内。

11.根据权利要求10所述的真空等离子枪，其特征在于，所述轴向开孔具有穿过所述中性极的大体上圆形的几何形状。

12.根据权利要求9所述的真空等离子枪，其特征在于，所述轴向开孔是通向所述中性极的外周边的凹部。

13.根据权利要求12所述的真空等离子枪，其特征在于，所述轴向开孔具有平行的侧壁和大体上垂直于所述侧壁的底壁。

14.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述多个中性极包括具有中心轴向开孔、外周边表面和围绕所述中心轴向开孔的多个凹部的盘状体。

15.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述多个中性极布置成使得所述多个凹部对准以在所述中性极堆叠中形成多个轴向冷却通道。

16.根据权利要求1所述的真空等离子枪，其特征在于，所述真空等离子枪构造成用于真空等离子喷涂(VPS)、低压等离子喷涂(LPPS、LVPS)或减压真空喷涂(RPPS)工艺中的至少一种。

17.一种控制真空等离子枪中的等离子弧的方法，所述方法包括：

将级联中性极堆叠连接到真空等离子枪的后体区段。

18.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括将复合等离子枪连接到单种气体，所述单种气体用作唯一的等离子气体源。

19.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述方法还包括向复合等离子枪供应大于65伏的操作电压。

20.根据权利要求17所述的方法，其特征在于，所述级联中性极堆叠包括多个中性极，其中每个中性极包括具有中心轴向开孔和围绕所述中心轴向开孔的多个凹部的盘状体，且所述方法还包括：

使所述级联中性极堆叠中的多个中性极定向成使得所述多个凹部轴向对准以形成穿过所述级联中性极堆叠的多个轴向冷却通道。