[发明专利]对用于生产三维工件的设备的辐照系统进行校准的装置和方法

权利要求书

1.对用于生产三维工件的设备(14)的辐照系统(12)进行校准的装置(10)，所述辐照系统(12)包括第一辐照单元(16)和第二辐照单元(24)，所述第一辐照单元用于沿着第一操作轴线(20)将第一辐照束(18)选择性地辐照到辐照平面(22)上，所述第二辐照单元用于沿着第二操作轴线(28)将第二辐照束(26)选择性地辐照到所述辐照平面(22)上，其中，所述装置(10)包括：

-控制单元(30)，所述控制单元适于控制所述第一辐照单元(16)以根据辐照图案(32)将所述第一辐照束(18)辐照到所述辐照平面(22)上，并适于控制所述第二辐照单元(24)以使所述第二操作轴线(28)相对于所述辐照平面(22)移位，使得所述第二操作轴线(28)穿过由所述第一辐照单元(16)产生的、到达所述辐照平面(22)上的辐照图案(32)；以及

-检测单元(34)，所述检测单元适于检测从所述辐照平面(22)上的碰撞点(36)的区域排放的处理排放物，所述第二辐照单元(24)的第二操作轴线(28)在该区域穿过所述辐照平面(22)，并适于将指示检测到的处理排放物的信号输出到所述控制单元(30)，并且其中，

所述控制单元(30)还适于：

-确定由所述第一辐照单元(16)产生的辐照图案(32)在所述辐照平面(22)上的位置(x_1…n，y_1…n)，

-基于由所述检测单元(34)输出的信号确定由所述第一辐照单元(16)产生的辐照图案(32)和所述第二辐照单元(24)的第二操作轴线(28)之间的至少一个相交点(38)的位置(x’_S1，y’_S1)，以及

-基于由所述第一辐照单元(16)产生的辐照图案(32)的、所确定的位置(x_1…n，y_1…n)和所述至少一个相交点的、所确定的位置(x’_S1，y’_S1)对所述辐照系统(12)进行校准。

2.根据权利要求1所述的装置(10)，其中，所述控制单元(30)适于相对于所述第一辐照单元(16)对所述第二辐照单元(24)进行校准，和/或适于相对于所述辐照平面(22)对所述第一辐照单元(16)和所述第二辐照单元(24)进行校准。

3.根据权利要求2所述的装置(10)，其中，用于相对于所述第一辐照单元(16)对所述第二辐照单元(24)进行校准的所述控制单元(30)还适于将所述第一辐照单元(16)的第一位置坐标系和所述第二辐照单元(24)的第二位置坐标系进行比较，根据所述第一位置坐标系控制所述第一辐照单元(16)以使所述第一辐照束(18)在所述辐照平面(22)上移动，根据所述第二位置坐标系控制所述第二辐照单元(24)以使所述第二辐照束(26)在所述辐照平面(22)上移动。

4.根据权利要求3所述的装置(10)，其中，所述控制单元还适于：

-将所述第一辐照单元(16)的第一位置坐标系的第一轴和所述第二辐照单元(24)的第二位置坐标系的第一轴进行比较；以及

-将所述第一辐照单元(16)的第一位置坐标系的第二轴和所述第二辐照单元(24)的第二位置坐标系的第二轴进行比较。

5.根据权利要求3所述的装置(10)，其中，所述控制单元(30)还适于将所述第一辐照单元(16)的第一位置坐标系和所述第二辐照单元(24)的第二位置坐标系关于彼此进行调整。

6.根据权利要求4所述的装置(10)，其中，用于调整所述辐照系统(12)的所述控制单元(30)适于改变所述第一辐照单元(16)的第一位置坐标系的至少一个坐标轴和/或所述第二辐照单元(24)的第二位置坐标系的至少一个坐标轴。