[发明专利]被处理液的精制方法

说明书

本发明提供一种螯合树脂的制造方法，该螯合树脂可减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。一种螯合树脂的制造方法，其包括精制工序，上述精制工序使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL‑R以下。

技术领域

本发明涉及螯合树脂的制造方法和制造装置、以及使用该螯合树脂的被处理液的精制方法。

背景技术

在半导体集成电路(IC)、液晶显示器(LCD)等平板显示器(FPD)、摄像元件(CCD、CMOS)等电子部件、CD-ROM、DVD-ROM等各种记录介质等(将它们统称为电子工业制品)的制造工序中，使用各种药液、溶解溶剂、电子材料(例如液状的材料)、电子材料的原料或溶解溶剂、清洗水等(将它们统称为制造用液)。随着近年的电子工业制品的高性能化、高品质化，对于这些制造用液、电子材料的原料或其溶解溶剂，高纯度化的要求也提高。

若该制造用液中包含金属(钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)、铁(Fe)等)的离子性杂质(将它们统称为金属杂质离子)，则对电子工业制品的性能、品质等产生重大的影响。因此，要求制造用液中杂质(特别是金属)的含量非常低，即高纯度。例如，在超纯水中，要求1ppt以下左右的金属含量，在其他药液等中也要求ppt等级程度的金属含量。

例如，专利文献1记载了以下方法：使用与特定的无机酸溶液接触而精制的阳离子交换树脂，对含有金属杂质的制造用液等被处理液进行精制，减少金属杂质含量。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第4441472号公报

发明内容

(发明要解决的课题)

但是，如专利文献1的方法所示，在将阳离子交换树脂用于酯、酮等的精制的情况下，有时由于阳离子交换树脂，羰基部位与水等亲核试剂反应。特别是在酯的情况下，进行水解反应，生成醇和有机酸，因此有时会作为杂质混入精制后的处理液中。

本发明的目的在于提供螯合树脂的制造方法和制造装置、以及使用该螯合树脂的被处理液的精制方法，其中，可减少含有金属杂质的被处理液的金属杂质含量而得到高纯度的处理液。

(用于解决课题的技术方案)

本发明是一种螯合树脂的制造方法，其包括精制工序，上述精制工序使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。

上述螯合树脂的制造方法中，优选上述精制工序中使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量分别为200μg/L以下。

上述螯合树脂的制造方法中，优选在上述精制工序的后段包括清洗工序，上述清洗工序利用纯水或超纯水清洗与上述无机酸溶液接触的螯合树脂。

上述螯合树脂的制造方法中，优选上述螯合树脂具有氨甲基磷酸基或亚氨基二乙酸基作为螯合基。

本发明为一种螯合树脂的制造装置，其具备精制单元，上述精制单元使金属杂质含量为1mg/L以下且浓度为5重量％以上的无机酸溶液与作为精制对象的螯合树脂接触而进行精制，将使浓度3重量％的盐酸以体积比25倍量通过精制后的螯合树脂时溶出的总金属杂质溶出量控制在5μg/mL-R以下。

上述螯合树脂的制造装置中，优选上述精制单元使用的无机酸溶液中的钠(Na)、钙(Ca)、镁(Mg)和铁(Fe)的各含量分别为200μg/L以下。