[发明专利]磁盘用铝合金基板及其制造方法、以及使用该磁盘用铝合金基板的磁盘有效
申请号: | 201980013742.9 | 申请日: | 2019-02-06 |
公开(公告)号: | CN111771241B | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 北脇高太郎;米光诚;畠山英之;中山贤;藤井康生;坂本辽 | 申请(专利权)人: | 株式会社UACJ;古河电气工业株式会社 |
主分类号: | G11B5/73 | 分类号: | G11B5/73;C22C21/00;C22F1/04;G11B5/84;C22F1/00 |
代理公司: | 北京天达共和知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11586 | 代理人: | 张嵩;薛仑 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁盘 铝合金 及其 制造 方法 以及 使用 | ||
1.一种磁盘用铝合金基板,其特征在于,
由包含Fe:0.4~3.0mass%、Cu:0.005~1.000mass%、Zn:0.005~1.000mass,且包含从由Mn:0.1~3.0mass%、Si:0.1~0.4mass%、Mg:0.1~0.4mass%、Ni:0.1~3.0mass%、Cr:0.01~1.00mass%及Zr:0.01~1.00mass%构成的组中选择的1种或2种以上,剩余部分Al及不可避免的杂质构成的铝合金构成,以具有10μm以上小于16μm的最长径的Al-Fe系金属间化合物的分布密度A与具有10μm以上的最长径的Al-Fe系金属间化合物的分布密度B的比例(A/B)为0.70以上、具有40μm以上的最长径的Al-Fe系金属间化合物以1个/mm2以下的分布密度分散。
2.根据权利要求1所述的磁盘用铝合金基板,
所述铝合金还包含从由合计含量为0.005~0.500mass%以下的Ti、B及V构成的组中选择的1种或2种以上。
3.一种磁盘,其特征在于,
在如权利要求1或2所述的磁盘用铝合金基板的表面,设置有无电解镀Ni-P处理层和其上的磁性体层。
4.一种磁盘用铝合金基板的制造方法,为权利要求1或2所述的磁盘用铝合金基板的制造方法,包括:
使用所述铝合金铸造铸坯、加热所述铸坯以使所述铸坯均质化、热轧所述均质化热处理后的铸坯、对所述热轧的铸坯冷轧、将冷轧板冲切为圆环状的盘坯、对冲切后的盘坯加压退火、对加压退火后的盘坯实施切削加工和磨削加工的工序;在所述冷轧的工序中,在60~180℃的温度范围将每1道次的轧制率为15%以上、并且将全轧制率设为50%以上进行冷轧。
5.根据权利要求4所述的磁盘用铝合金基板的制造方法,其中,
将铸造的铸坯以280~620℃进行0.5~60小时加热处理,将均质化热处理后的铸坯以250~600℃的开始温度和230~450℃的结束温度进行热轧。
6.根据权利要求4或5所述的磁盘用铝合金基板的制造方法,还包括:
在上述冷轧前或中途,还包括使铸坯或轧制板退火的退火处理,是在300~500℃下0.1~30小时的间歇退火处理、或者在400~600℃下0~60秒的连续退火处理。
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