[发明专利]超低量程荧光计校准在审
申请号: | 201980014594.2 | 申请日: | 2019-03-01 |
公开(公告)号: | CN111758020A | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 雍顺祜 | 申请(专利权)人: | 埃科莱布美国股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/27 | 分类号: | G01N21/27;G01N21/64;G01N33/18;G01N21/84 |
代理公司: | 北京世峰知识产权代理有限公司 11713 | 代理人: | 卓霖;许向彤 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量程 荧光 校准 | ||
1.一种校准用于监测反渗透膜分离过程的荧光计的方法,其包括:
将荧光示踪剂引入进料流中以在所述进料流中提供第一浓度的荧光示踪剂;
使膜与所述进料流接触,从而产生渗透物流和浓缩物流;
用荧光计对从具有第一浓度的荧光示踪剂的进料流产生的渗透物流进行荧光分析,并由此基于所存储的包括截距的校准曲线,确定所述渗透物流中所述荧光示踪剂的第一测量浓度;
调整所述进料流中所述荧光示踪剂的浓度,以在所述进料流中提供不同于所述第一浓度的第二浓度的荧光示踪剂;
用荧光计对从具有第二浓度的荧光示踪剂的进料流产生的渗透物流进行荧光分析,并由此基于所述校准曲线,确定所述渗透物流中所述荧光示踪剂的第二测量浓度;
基于所述第一测量浓度与所述第二测量浓度的比较,确定所述校准曲线的截距偏移;并且
根据所述截距偏移确定所述校准曲线调整后的截距。
2.根据权利要求1所述的方法,其中调整所述荧光示踪剂的浓度包括调整所述荧光示踪剂的浓度,直到所述荧光示踪剂的第二浓度范围为所述荧光示踪剂的第一浓度的0.1倍至0.9倍或为所述荧光示踪剂的第一浓度的1.1倍至10倍。
3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法,其中基于所述第一测量浓度与所述第二测量浓度的比较确定所述校准曲线的截距偏移包括根据以下方程式确定所述截距偏移:
其中γ是截距偏移,a是所述荧光示踪剂的第一测量浓度,b是所述荧光示踪剂的第二测量浓度,并且x是所述荧光示踪剂的第二浓度除以所述荧光示踪剂的第一浓度。
4.根据权利要求1-3中任一项所述的方法,其中确定所述校准曲线的调整后的截距包括向所述校准曲线的截距增加所确定的截距偏移量。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的方法,其还包括将所述调整后的截距存储在与所述荧光计相关联的非暂时性存储器中。
6.根据权利要求1-5中任一项所述的方法,其中所述校准曲线是形式为y=m*x+b的一阶方程式,其中y是所述荧光示踪剂的测量浓度,m是由所述荧光计测得的荧光信号,x是斜率,并且b是截距。
7.根据权利要求1-6中任一项所述的方法,其中所述荧光计是在线荧光计,其基本上连续地对从所述进料流产生的所述渗透物流进行荧光分析。
8.根据权利要求7所述的方法,其还包括:在在线安装所述荧光计之前,用荧光计进行多点校准,所述多点校准包括:对无所述荧光示踪剂的第一流体和具有已知浓度的所述荧光示踪剂的第二流体进行荧光分析,并由此确定所述校准曲线的斜率和截距,
其中确定所述校准曲线的调整后的截距包括确定所述调整后的截距而无需确定调整后的斜率。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的方法,其中所述进料流包括水性废水流或水性循环流。
10.根据权利要求1-9中任一项所述的方法,其中所述膜是反渗透膜。
11.根据权利要求1-10中任一项所述的方法,其中对从具有所述第二浓度的荧光示踪剂的所述进料流产生的所述渗透物流进行荧光分析包括:在调整引入到所述进料流中的所述荧光示踪剂的浓度之后一段时间对所述渗透物流进行荧光分析,所述一段时间有效地实现所述进料流和所述渗透物流中所述荧光示踪剂的平衡浓度。
12.根据权利要求1-11中任一项所述的方法,其中所述进料流中所述荧光示踪剂的第一浓度范围为十亿分之10(ppb)至100,000ppb,并且所述渗透物中的荧光示踪剂的第一浓度小于10ppb。
13.根据权利要求1-12中任一项所述的方法,其中除了所述截距以外,所述校准曲线还包括一个或多个斜率常数,并且确定所述校准曲线的调整后的截距包括确定所述调整后的截距而无需确定调整后的斜率常数。
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