[发明专利]液相色谱技术

权利要求书

1.一种液相色谱技术，其包括：

提供具有涂覆金属流体接触元件的液相色谱系统；和

输送流体与所述涂覆金属流体接触元件接触；

其中流体输送条件选自由以下组成的组：流体温度大于150℃、驱动流体的压力大于60MPa、流体含有与钛和聚醚醚酮中一种或两种不相容的含蛋白质分析物、流体含有与钛或聚醚醚酮中一种或两种不相容的螯合剂，以及其组合。

2.如权利要求1所述的液相色谱技术，其中所述涂覆金属流体接触元件具有涂层和不锈钢基体，所述涂层包括碳、硅、氧和氢。

3.如权利要求1所述的液相色谱技术，其中所述涂覆金属流体接触元件具有涂层和不锈钢基体，所述涂层包括碳、硅、氧、氢和氟。

4.如权利要求1所述的液相色谱技术，其中所述涂覆金属流体接触元件具有涂层和不锈钢基体，所述涂层包括碳、硅、氧、氢和氮。

5.如权利要求1所述的技术，其中所述驱动流体的压力大于120MPa。

6.如权利要求1所述的技术，其中所述流体的温度大于400℃。

7.如权利要求1所述的技术，其中所述流体的pH小于2。

8.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属流体接触元件是直径小于2.1mm的涂覆金属柱。

9.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属流体接触元件的长度小于20cm。

10.如权利要求1所述的技术，其中输送所述流体通过所述涂覆金属流体接触元件的线性速度为至少8mm/s。

11.如权利要求1所述的技术，其中所述流体包括选自由以下组成的组中的溶剂：水、乙腈、甲醇、甲酸、磷酸、四氢呋喃、三氟乙酸及其组合。

12.如权利要求1所述的技术，其中所述流体包括选自由以下组成的组中的分析物：四环素、N-羟基吡啶-2-酮、三磷酸腺苷和单磷酸脱氧核苷酸。

13.如权利要求1所述的技术，其中所述液相色谱系统包括位于所述涂覆金属流体接触元件内的固定相，所述固定相包括尺寸小于3微米的颗粒，和所述涂覆金属柱的长度在10cm至20cm之间。

14.如权利要求1所述的技术，其中所述液相色谱系统包括位于所述涂覆金属流体接触元件内的固定相，所述固定相包括尺寸小于1.5微米的颗粒。

15.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属部件是生物惰性的。

16.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属流体接触元件是抗蛋白质粘附的。

17.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属流体接触元件具有厚度为至少400nm的涂层。

18.如权利要求1所述的技术，其中所述涂覆金属流体接触元件具有厚度为1000nm至1600nm的涂层。

19.一种液相色谱技术，其包括：

提供具有涂覆金属柱、脱气机、样品、一个或多个泵和检测器的液相色谱系统；

输送流体通过所述涂覆金属柱，其中流体输送条件包括以下中的一种或两种：流体具有与钛和聚醚酮中一种或两种不相容的含蛋白质分析物、以及流体含有与钛或聚醚醚酮中一种或两种不相容的螯合剂。

20.一种液相色谱技术，其包括：

提供液相色谱系统，其具有涂覆金属柱，位于所述涂覆金属柱内的固定相，所述固定相包括尺寸小于1.5微米的颗粒；

输送流体通过所述涂覆金属柱，其中流体输送条件包括流体温度大于150℃、在所述涂覆金属柱内驱动流体的压力大于60MPa、流体含有与钛和聚醚醚酮中一种或两种不相容的含蛋白质分析物、流体含有与钛或聚醚醚酮中一种或两种不相容的螯合剂，以及其组合；

其中所述涂覆金属柱具有包括碳、硅、氧和氢的涂层以及不锈钢基体，所述流体的pH值小于2，所述涂覆金属柱的直径小于2.1mm，所述涂覆金属柱的长度小于20cm，和所述涂覆金属部件具有厚度为至少400nm的涂层；

其中输送流体通过所述涂覆金属柱的线性速度为至少8mm/s；

其中所述流体包括选自由以下组成的组中的溶剂：水、乙腈、甲醇、甲酸、磷酸、四氢呋喃、三氟乙酸及其组合；和

其中所述流体包括选自由以下组成的组中的分析物：四环素、N-羟基吡啶-2-酮、三磷酸腺苷和单磷酸脱氧核苷酸。