[发明专利]具有低的HF蚀刻后粗糙度的不含碱性硼硅酸盐玻璃

权利要求书

1.一种制品，其包括：

玻璃基材，其包括：

在其中具有多个孔的第一表面；和

与所述第一表面平行的第二表面；

其中，所述第一表面和第二表面中的至少一个是表面粗糙度(Ra)为0.75nm或更小的经蚀刻的表面，所述多个孔是经所述蚀刻形成的孔；

其中，以氧化物的摩尔％计，所述玻璃基材包含：

65摩尔％≤SiO₂≤72摩尔％；

7摩尔％≤Al₂O₃≤15摩尔％；

0.1摩尔％≤B₂O₃≤2摩尔％；

1摩尔％≤P₂O₅≤2摩尔％；

其中，

RO＝MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO；

R₂O＝Li₂O+Na₂O+K₂O+Rb₂O+Cs₂O；

26.25摩尔％≤RO+Al₂O₃–B₂O₃；

0摩尔％≤R₂O≤2摩尔％；以及

SiO₂、Al₂O₃、B₂O₃、P₂O₅、MgO、ZnO、CaO、SrO、BaO、Li₂O、Na₂O、K₂O、Rb₂O、Cs₂O、R₂O和RO表示所代表的氧化物组分的摩尔％。

2.如权利要求1所述的制品，其中，以氧化物的摩尔％计，所述玻璃基材包含：

65摩尔％≤SiO₂≤72摩尔％；

7摩尔％≤Al₂O₃≤15摩尔％；

0.1摩尔％≤B₂O₃≤2摩尔％；

0摩尔％≤MgO≤6摩尔％；

0摩尔％≤ZnO≤4摩尔％；

0摩尔％≤CaO≤6摩尔％；

0摩尔％≤SrO≤10摩尔％；

0摩尔％≤BaO≤10摩尔％；

0摩尔％≤SnO₂≤0.5摩尔％；

0摩尔％≤As₂O₃≤0.5摩尔％；

0摩尔％≤Sb₂O₃≤0.5摩尔％；

其中，

SnO₂、As₂O₃、Sb₂O₃表示所代表的氧化物组分的摩尔％。

3.如权利要求1所述的制品，其中，所述制品是玻璃基材。

4.如权利要求1至3中任一项所述的制品，其中，所述多个孔是从所述第一表面延伸到所述第二表面的通孔。

5.如权利要求1至3中任一项所述的制品，其中，所述多个孔是从所述第一表面朝向所述第二表面延伸而没有到达所述第二表面的盲孔。

6.如权利要求1至3中任一项所述的制品，所述制品还包括载体，其中，所述第一表面和第二表面中的至少一个经过蚀刻，具有0.75nm或更小的表面粗糙度(Ra)，以及粘结到载体。

7.如权利要求6所述的制品，其中，所述载体的表面粗糙度(Ra)是0.2nm至0.4nm。

8.如权利要求1至3中任一项所述的制品，其中，所述玻璃基材具有150μm或更小的厚度。