[发明专利]电容器

权利要求书

1.一种电容器，具备：

基材，具有主表面，上述主表面具有凹部以及凸部中的至少一方；

电介质膜，覆盖上述主表面；以及

导电体膜，覆盖上述电介质膜，

上述电介质膜沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成，

上述电介质膜的等效氧化层厚度为600nm以上，

上述电介质膜包含两层以上的层叠构造，

上述层叠构造中的最上层的残余应力与上述层叠构造中的其他任意一层的残余应力相比都小。

2.根据权利要求1所述的电容器，其中，

上述导电体膜在沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成的上述电介质膜上具有上述导电体膜彼此相互对置但不相互接触的区域。

3.根据权利要求1或2所述的电容器，其中，

上述电介质膜包含三层以上的层叠构造。

4.根据权利要求3所述的电容器，其中，

上述层叠构造包含按氧化膜、氮化膜、氧化膜的顺序的层叠。

5.根据权利要求1或2所述的电容器，其中，

上述层叠构造中的最上层是非热氧化膜的氧化膜。

6.根据权利要求1或2所述的电容器，其中，

上述层叠构造包含按氧化膜、氮化膜、氧化膜、氮化膜、氧化膜的顺序的层叠。

7.一种电容器，具备：

基材，具有主表面，上述主表面具有凹部以及凸部中的至少一方；

电介质膜，覆盖上述主表面；以及

导电体膜，覆盖上述电介质膜，

上述电介质膜沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成，

上述电介质膜的等效氧化层厚度为600nm以上，

上述电介质膜包含两层以上的层叠构造，

在关于从氢、水以及碳构成的群中选择的任意一个要素的含量比较时，上述层叠构造中的最上层与上述层叠构造中的其他任意一层相比都含有更多。

8.根据权利要求7所述的电容器，其中，

上述导电体膜在沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成的上述电介质膜上具有上述导电体膜彼此相互对置但不相互接触的区域。

9.根据权利要求7或8所述的电容器，其中，

上述电介质膜包含三层以上的层叠构造。

10.根据权利要求9所述的电容器，其中，

上述层叠构造包含按氧化膜、氮化膜、氧化膜的顺序的层叠。

11.根据权利要求7或8所述的电容器，其中，

上述层叠构造中的最上层是非热氧化膜的氧化膜。

12.根据权利要求7或8所述的电容器，其中，

上述层叠构造包含按氧化膜、氮化膜、氧化膜、氮化膜、氧化膜的顺序的层叠。

13.一种电容器，具备：

基材，具有主表面，上述主表面具有凹部以及凸部中的至少一方；

电介质膜，覆盖上述主表面；以及

导电体膜，覆盖上述电介质膜，

上述电介质膜沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成，

上述电介质膜的等效氧化层厚度为600nm以上，

上述电介质膜包含两层以上的层叠构造，

上述层叠构造中的最上层比上述层叠构造中的其他任意一层都厚。

14.根据权利要求13所述的电容器，其中，

上述层叠构造中的最上层的厚度比上述层叠构造中的其他全部的层的总和厚度厚。

15.根据权利要求13所述的电容器，其中，

上述导电体膜在沿着上述凹部以及凸部中的至少一方形成的上述电介质膜上具有上述导电体膜彼此相互对置但不相互接触的区域。