[发明专利]用于吸入装置的包括可更换基底部件的吸嘴组件以及可更换基底部件在审

专利信息
申请号: 201980015434.X 申请日: 2019-01-10
公开(公告)号: CN111787820A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: D·劳森;G·格里菲斯;M·迪格纳姆 申请(专利权)人: 万特斯医疗有限公司
主分类号: A24F40/40 分类号: A24F40/40;A24F40/46;A24F40/48
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 王永建
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 吸入 装置 包括 更换 基底 部件 组件 以及
【权利要求书】:

1.一种用于吸入装置的吸嘴组件,所述吸嘴组件包括吸嘴和基底部件,所述吸嘴具有靠近其第一端设置的第一空气入口以及靠近其沿轴向远离所述第一端的第二端设置的空气出口,所述入口和所述出口在所述吸嘴的内部彼此流体连通,以使得所述吸嘴内的流体流倾向于沿着其基本上纵向的轴线产生,所述吸嘴具有空腔区域,所述空腔区域被限定在所述吸嘴的内部并适合于将所述基底部件接收和定位在所述吸嘴内,以使得所述基底部件在所述流体流产生时与所述流体流相互作用,

其特征在于,所述基底部件包括至少一个基本平坦的表面,在所述至少一个基本平坦的表面中设有至少一个通道结构,所述基本平坦的表面与所述吸嘴的相应的内部表面协作,以使得至少一个所述通道结构和所述相应的内部表面一起限定至少一个导管,所述吸嘴内产生的任何流体流的至少一部分必须被引导通过所述至少一个导管,

并且进一步的特征在于,所述基底部件包括基底,一定量的可雾化制剂已经在所述基底的可以在被供以足够且合适的激发能量时被激发的区域上施加至所述基底,所述通道结构与所述区域至少部分地重合并因此暴露所述基底在所述区域中的表面,以使得在供应激发能量时雾化的任何制剂被夹带至在所述通道内并且因此在所述通道所部分地限定的所述导管内流动的流体中。

2.一种用于吸入装置的吸嘴组件,所述吸嘴组件包括吸嘴和基底部件,所述吸嘴具有靠近其第一端设置的第一空气入口和靠近其沿轴向远离所述第一端的第二端设置的空气出口,所述入口和所述出口在所述吸嘴的内部彼此流体连通,以使得所述吸嘴内的流体流倾向于沿着其基本上纵向的轴线产生,所述吸嘴具有空腔区域,所述空腔区域被限定在所述吸嘴的内部并且适合于将所述基底部件接收并定位在所述吸嘴内,以使得所述基底部件在所述流体流产生时与所述流体流相互作用,

其特征在于,所述基底部件包括至少一个基本平坦的表面,在所述至少一个基本平坦的表面的下方、在所述基底部件的内部设有至少一个导管,所述导管分别具有入口孔口和出口孔口,所述入口孔口和所述出口孔口中的至少一个被设置在所述基底部件的所述基本平坦的表面中,所述基本平坦的表面与所述吸嘴的相应内部表面协作,以使得所述表面一起约束在所述吸嘴内产生的任何流体流的至少一部分,以使其被引导至设置在所述基底部件内的所述至少一个内部导管中,

并且进一步的特征在于,所述基底部件包括基底,一定量的可雾化制剂已经在所述基底的可以在被供以足够且合适的激发能量时被激发的区域上施加至所述基底,所述导管与所述区域至少部分地重合并因此暴露所述基底在所述区域中的表面,以使得在供应激发能量时雾化的任何制剂被夹带至在所述导管内流动的流体中。

3.根据任一前述权利要求所述的吸嘴部件,其中,所述基底部件是细长的,并且所述至少一个通道结构或导管视情况而定与所述基底部件的纵向轴线基本平行地对齐。

4.根据任一前述权利要求所述的吸嘴组件,其中,所述基底部件设有两个通道结构或内部导管,视情况而定,所述两个通道结构或内部导管优选地在配置和取向上是笔直的并且平行的。

5.根据任一前述权利要求所述的吸嘴组件,其中,所述基底部件的所述基本平坦的表面和所述吸嘴的相应的内部表面共同协作以便视情况而定将在所述吸嘴部件内产生的任何和全部流体流引导至所述至少一个通道结构或导管中。

6.根据权利要求1-4中的任一项所述的吸嘴组件,其中,所述吸嘴在内部设有至少一个辅助导管,所述至少一个辅助导管用作流体旁路,其中通过所述吸嘴的入口进入所述吸嘴中的初始整体的流体流被分成至少两个分散部分,即,第一活性部分以及第二旁路部分,所述第一活性部分视情况而定被约束成流动至所述基底部件的所述至少一个通道结构或导管中,所述第二旁路部分在所述吸嘴内的大部分行程上与所述第一部分分开且不同,并且与所述第一部分隔离开。

7.根据权利要求6所述的吸嘴组件,其中,所述吸嘴内的所述流体流的所述第一活性部分和所述第二旁路部分在所述吸嘴内重新结合。

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