[发明专利]光学透明超疏水薄膜在审

专利信息
申请号: 201980015803.5 申请日: 2019-02-27
公开(公告)号: CN111788272A 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: J.T.辛普森 申请(专利权)人: 伟摩有限责任公司
主分类号: C09D201/04 分类号: C09D201/04;C09D7/63;C09D7/61;C09D7/20;C09D5/00;C08K3/36;C09K3/18;B05D3/14;C09D7/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 金玉洁
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 透明 疏水 薄膜
【权利要求书】:

1.一种涂覆基底的方法,所述方法包括:

提供具有表面的基底;

邻近所述表面布置涂料组合物;所述组合物包括:

疏水氟化溶剂;

包括疏水氟化聚合物的粘合剂;和

疏水热解法二氧化硅纳米粒子;以及

蒸发所述氟化溶剂。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述涂料组合物还包括疏水气凝胶纳米粒子。

3.根据权利要求2所述的方法,其中

所述粘合剂以所述组合物的0.3重量%至1.5重量%范围内的量存在;

所述二氧化硅纳米粒子以所述组合物的0.01重量%至0.5重量%的量存在;和

所述气凝胶纳米粒子以所述组合物的0.1重量%至0.5重量%的量存在。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述二氧化硅纳米粒子和所述气凝胶纳米粒子的平均尺寸在10nm至200nm的范围内。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述涂料组合物还包括交联硅烷。

6.根据权利要求5所述的方法,还包括固化布置的涂料组合物。

7.根据权利要求1所述的方法,还包括在布置所述涂料组合物之前处理基底表面。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,处理所述表面包括等离子体蚀刻。

9.根据权利要求7所述的方法,其中,处理所述表面包括在所述表面的至少一部分上沉积硅烷。

10.一种涂覆的基底,所述涂覆的基底为权利要求1的产品。

11.一种包括涂料层的制品,所述涂料层具有内表面和相对的外表面,邻近基底表面布置所述内表面,其中,所述涂料层包括疏水氟化聚合物和多个纳米粒子,并且所述纳米粒子的至少一部分部分暴露在所述涂料层的外表面上。

12.根据权利要求11所述的制品,其中,所述纳米粒子选自二氧化硅纳米粒子和气凝胶纳米粒子中的一种或多种。

13.根据权利要求11所述的制品,其中,所述纳米粒子的平均尺寸在10nm至200nm的范围内。

14.根据权利要求11所述的制品,其中,外主表面还包括多个凹陷。

15.根据权利要求14所述的制品,其中,所述凹陷的平均尺寸在10nm至200nm的范围内。

16.根据权利要求11所述的制品,其中,所述涂料层还包括交联的硅烷。

17.根据权利要求11所述的制品,其中,所述基底表面包括多个羟基组。

18.根据权利要求11所述的制品,其中,所述基底表面包括硅烷。

19.根据权利要求11所述的制品,其中,外主表面具有至少130°的水接触角。

20.根据权利要求9所述的制品,其中,外主表面具有至少150°的水接触角。

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