[发明专利]旋转运动密封装置有效
申请号: | 201980016703.4 | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN111801522B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 李喜张 | 申请(专利权)人: | 世利可株式会社 |
主分类号: | F16J15/00 | 分类号: | F16J15/00;F16J15/3248;F16J15/3268;H01L21/687;H01L21/67 |
代理公司: | 北京商专永信知识产权代理事务所(普通合伙) 11400 | 代理人: | 方挺;侯晓艳 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 旋转 运动 密封 装置 | ||
本发明公开了一种直线及旋转运动密封装置。根据本发明一实施例的直线及旋转运动密封装置,包括:壳体;中空的第一轴,其贯通所述壳体结合;第一密封件,其配置在所述壳体和所述第一轴之间,并对它们之间进行密封;第二轴,其至少一部分插入至所述第一轴的内部;第二密封件,其配置在所述第一轴和所述第二轴之间,并对它们之间进行密封;以及第三密封件,其配置在所述第一轴的内缘面或所述第二轴的外缘面中任一个。
技术领域
本发明涉及可旋转运动密封装置。更具体地,用于具有旋转轴的机械元件,从而使轴做旋转运动,同时防止轴与固定的壳体之间发生流体泄漏,此外,当因密封件的磨损或破损需要进行替换时,可以使用预制的备用密封件的旋转运动密封装置,其中,该机械元件是用在将通过气体间化学反应形成的粒子沉积在晶片表面来形成绝缘膜或导电膜的化学气相沉积(CVD;Chemical Vapor Deposition)工艺、原子层沉积(ALD;Atomic LayerDeposition)工艺、离子注入工艺、OLED及蚀刻工艺等。
背景技术
通常,用于真空压力设备的直线及旋转运动密封装置,被配置在面向高压区和低压区,并在它们之间做直线及旋转运动的轴的外缘面,从而使高压区和低压区互相密封。
图1是现有的用于真空压力设备的密封装置的截面图,如图所示,现有的用于真空压力设备的密封装置1包括壳体10,以及贯通壳体10结合的轴20。轴20面向高压区和低压区,壳体10位于高压区与低压区的边界。并且,在壳体10与轴20之间具有轴套30和用于密封的密封件40。轴套30用于减小壳体10与轴20之间发生的摩擦,密封件40用于对壳体10与轴20之间进行密封。此时,在轴20和密封件40之间也会发生摩擦,为了最小化此时发生的摩擦,在轴20的表面涂覆有陶瓷层。并且,可以设置多个密封件40分别位于所述壳体10的上部和下部来提高密封效果。
轴20可以相对于壳体10做旋转运动。轴套30用于减小轴20做旋转运动时的摩擦,轴套30可以是内部具有多个球的球轴套,或者是内部具有固体润滑剂的滑动轴套。
但具有上述结构的现有的用于真空压力设备的密封装置1具有以下缺点:仅可以做旋转运动或直线运动,若要同时实现直线运动,密封件40也需要同时满足对于旋转运动的密封和对于直线运动的密封。当同时满足旋转运动和直线运动的密封时,密封件40具有容易发生破损、寿命短,并且需要经常更换的缺点。
一方面,轴20被设置为可以对于壳体10做旋转运动。此时,轴套30用于减小轴20做旋转运动时的摩擦,轴套30可以是内部具有多个球的球轴套,或者是内部具有固体润滑剂的滑动轴套。
但是具有上述结构的现有的用于真空压力设备的密封装置1的缺点在于密封件40容易发生破损、寿命短,并且需要经常更换。而且,还会发生轴20从壳体10脱离的问题。
发明内容
要解决的技术问题
本发明的目的在于解决上述问题,提供一种用于真空压力设备的旋转运动密封装置,轴可以做旋转运动,同时防止轴与固定的壳体之间发生流体泄漏。
并且,本发明的目的在于提供一种用于真空压力设备的直线及旋转运动密封装置,轴可以同时做直线及旋转运动,同时防止轴与固定的壳体之间发生流体泄露。
并且,提供一种直线及旋转运动密封装置,当对旋转运动进行密封的密封件发生破损时,通过将轴沿轴向移动,可以替换使用新的备用密封件。
并且,提供一种直线及旋转运动密封装置,当对旋转运动进行密封的密封件发生破损时,通过将轴沿轴向移动,可以替换使用新的备用密封件。
并且,提供一种旋转运动密封装置,能够防止传递旋转运动的轴从壳体发生脱离。
解决问题的技术方案
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