[发明专利]组合模拟及光学显微术以确定检验模式的方法和系统

权利要求书

1.一种用于确定光学检验模式的系统，其包括：

光源，其经配置以将光束引导于晶片处；

检测器，其收集从所述晶片反射的所述光束；及

处理器，其与所述检测器进行电子通信，其中所述处理器经配置以：

针对多种模式从所述检测器接收所述晶片的测试图像及参考图像；

从所述测试图像及所述参考图像确定差分图像；

在多个位点处基于所述差分图像的灰阶确定噪声；

使用电磁模拟在所述多个位点处且针对所述多种模式确定所关注缺陷的信号强度，其中对于所述多种模式，所述电磁模拟确定所述测试图像中的一者和所述参考图像中的一者的预测灰阶值，且减去所述测试图像中的所述一者和所述参考图像中的所述一者的所述预测灰阶值，从而确定所述所关注缺陷的差分灰阶；

在所述多个位点及所述多种模式的每一组合下确定所述所关注缺陷的所述信号强度对所述噪声的比率，其中呈所述比率中的每一者的所述所关注缺陷的所述信号强度及所述噪声对应于所述多个位点及所述多种模式中的相同位点及模式；及

基于所述比率确定具有优化信号对噪声特性的模式。

2.根据权利要求1所述的系统，其中通过检查分布中的离群值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

3.根据权利要求1所述的系统，其中通过寻找所述比率的最大值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

4.根据权利要求1所述的系统，其中通过寻找所述比率的最大平均值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

5.根据权利要求1所述的系统，其中通过寻找所述比率的最大中值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

6.一种用于确定光学检验模式的方法，其包括：

在处理器处，针对多种模式接收晶片的测试图像及参考图像；

使用所述处理器，从所述测试图像及所述参考图像确定差分图像；

使用所述处理器，在多个位点处基于所述差分图像的灰阶确定噪声；

使用所述处理器，使用电磁模拟在所述多个位点处且针对所述多种模式确定所关注缺陷的信号强度，其中对于所述多种模式，所述电磁模拟确定所述测试图像中的一者和所述参考图像中的一者的预测灰阶值，且减去所述测试图像中的所述一者和所述参考图像中的所述一者的所述预测灰阶值，从而确定所述所关注缺陷的差分灰阶；

使用所述处理器，在所述多个位点及所述多种模式的每一组合下确定所述所关注缺陷的所述信号强度对所述噪声的比率，其中呈所述比率中的每一者的所述所关注缺陷的所述信号强度及所述噪声对应于所述多个位点及所述多种模式中的相同位点及模式；及

使用所述处理器，基于所述比率确定具有优化信号对噪声特性的模式。

7.根据权利要求6所述的方法，其中通过检查分布中的离群值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

8.根据权利要求6所述的方法，其中通过寻找所述比率的最大值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

9.根据权利要求6所述的方法，其中通过寻找所述比率的最大平均值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

10.根据权利要求6所述的方法，其中通过寻找所述比率的最大中值来确定具有优化信号对噪声特性的所述模式。

11.根据权利要求6所述的方法，其进一步包括调整系统以使用具有优化信号对噪声特性的所述模式。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述系统是用于半导体晶片的光学检验系统。

13.根据权利要求6所述的方法，其中所述测试图像在关照区域内。