[发明专利]用于有机电致发光器件的材料在审
申请号: | 201980017062.4 | 申请日: | 2019-03-04 |
公开(公告)号: | CN111819169A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 鲁文·林格;塞巴斯汀·迈耶;拉拉-伊莎贝尔·罗德里格斯;阿伦·莱克纳 | 申请(专利权)人: | 默克专利有限公司 |
主分类号: | C07D307/77 | 分类号: | C07D307/77;C09K11/00;H01L51/50;H05B33/10;C07D405/14;C07D333/78;C07D405/04;C07D491/052;C07D491/147;C07D493/04;C07D493/14;C07D495/04;C07F7/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王潜;郭国清 |
地址: | 德国达*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 有机 电致发光 器件 材料 | ||
1.一种式(1)的化合物,
其中以下适用于所用符号和标记:
E1、E2、E3和E1*、E2*、E3*选自单键、-C(R0)2-、-Si(R0)2-、-S-和-O-;条件是至少一个基团E1、E2、E3、E1*、E2*、E3*表示-S-或-O-,并且条件是两个基团E1和E1*中刚好一个为单键,两个基团E2和E2*中刚好一个为单键并且两个基团E3和E3*中刚好一个为单键;
ArS、Ar1在每次出现时相同或不同地表示具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系可以被一个或多个基团R1取代;
X表示CR2、N;或X在其与相邻基团(ArS)n(Ar1)m(ArS)q(RL)p键合时表示C;或两个相邻基团X表示下式(Z-1)或(Z-2)的基团:
其中式(Z-1)或(Z-2)中的符号V指示式(1)中相应的两个相邻基团X;
Z表示CR2、N;或Z在与相邻基团(ArS)n(Ar1)m(ArS)q(RL)p键合时表示C;并且
E4和E4*选自单键、-B(R0)-、-C(R0)2-、-Si(R0)2-、-C(=O)-、-C(=NR0)-、-C(=C(R0)2)-、-O-、-S-、-S(=O)-、-S(O2)-、-N(R0)-、-P(R0)-和-P((=O)R0)-,其中存在于同一个环中的基团E4和E4*中的至少一个不是单键;
R0、R1、R2在每次出现时相同或不同地表示H,D,F,Cl,Br,I,CHO,CN,N(Ar)2,C(=O)Ar,P(=O)(Ar)2,S(=O)Ar,S(=O)2Ar,NO2,Si(R)3,B(OR)2,OSO2R,ArL,具有1至40个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至40个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团,所述烷基、烷氧基或硫代烷基基团中的每一个可以被一个或多个基团R取代,其中在每种情况下一个或多个非相邻CH2基团可以被RC=CR、C≡C、Si(R)2、Ge(R)2、Sn(R)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R)、SO、SO2、O、S或CONR代替,并且其中一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系可以被一个或多个基团R取代,或具有5至40个芳族环原子的芳氧基基团,所述芳氧基基团可以被一个或多个基团R取代,其中两个基团R0、两个基团R1和/或两个基团R2可以彼此形成环系,所述环系可以被一个或多个基团R取代;
RL在每次出现时相同或不同地表示H,D,F,Cl,Br,I,CHO,CN,N(Ar)2,C(=O)Ar,P(=O)(Ar)2,S(=O)Ar,S(=O)2Ar,NO2,Si(R)3,B(OR)2,OSO2R,ArL,具有1至40个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至40个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团,所述烷基、烷氧基或硫代烷基基团中的每一个可以被一个或多个基团R取代,其中在每种情况下一个或多个非相邻CH2基团可以被RC=CR、C≡C、Si(R)2、Ge(R)2、Sn(R)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R)、SO、SO2、O、S或CONR代替,并且其中一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系可以被一个或多个基团R取代,或具有5至40个芳族环原子的芳氧基基团,所述芳氧基基团可以被一个或多个基团R取代,其中两个基团RL可以彼此形成环系,所述环系可以被一个或多个基团R取代;或RL表示式(A)的基团,
其中虚线键指示与式(1)中的基团ArS或Ar1的键合,并且其中所述键合的位置处的X为C;
R在每次出现时相同或不同地表示H,D,F,Cl,Br,I,CHO,CN,N(Ar)2,C(=O)Ar,P(=O)(Ar)2,S(=O)Ar,S(=O)2Ar,NO2,Si(R’)3,B(OR’)2,OSO2R’,ArL,具有1至40个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至40个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团,所述烷基、烷氧基或硫代烷基基团中的每一个可以被一个或多个基团R’取代,其中在每种情况下一个或多个非相邻CH2基团可以被R’C=CR’、C≡C、Si(R’)2、Ge(R’)2、Sn(R’)2、C=O、C=S、C=Se、P(=O)(R’)、SO、SO2、O、S或CONR’代替,并且其中一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br、I、CN或NO2代替,具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系可以被一个或多个基团R’取代,或具有5至40个芳族环原子的芳氧基基团,所述芳氧基基团可以被一个或多个基团R’取代,其中两个基团R可以彼此形成环系,所述环系可以被一个或多个基团R’取代;
ArL表示式(ArL-1)的基团,
其中式(ArL-1)中的虚线键指示与式(1)结构的键合,其中Ar2、Ar3在每次出现时相同或不同地表示具有5至60个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系可以被一个或多个基团R取代;并且w为选自1至10的整数;
Ar为具有5至24个芳族环原子的芳族或杂芳族环系,在每种情况下所述芳族或杂芳族环系还可以被一个或多个基团R’取代;
R’在每次出现时相同或不同地表示H,D,F,Cl,Br,I,CN,具有1至20个C原子的直链的烷基、烷氧基或硫代烷基基团或具有3至20个C原子的支链或环状的烷基、烷氧基或硫代烷基基团,其中在每种情况下一个或多个非相邻CH2基团可以被SO、SO2、O、S代替,并且其中一个或多个H原子可以被D、F、Cl、Br或I代替,或具有5至24个C原子的芳族或杂芳族环系;
m在每次出现时相同或不同地为选自1至5的整数;
n、q、p相同或不同地为选自0至5的整数;并且
r、s、t相同或不同地等于0或1;
条件是r+s+t≥1。
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