[发明专利]补充可书写可清洁制品的方法和套件

权利要求书

1.一种在可书写可清洁制品上补充亲水性表面的方法，所述方法包括：

提供可书写可清洁制品，所述制品包括：

具有前表面的基底构件；

面层，所述面层包括固化的聚合物基质和分散在所述聚合物基质中的多个无机纳米粒子，其中所述面层设置在基底构件前表面的至少一部分上；

设置在所述面层的至少一部分上的任选底漆层；和

亲水性外覆层，所述亲水性外覆层通过硅氧烷键键合到所述面层和/或所述任选底漆层，从而提供可书写可清洁的亲水性表面；

其中所述亲水性外覆层具有至少部分被消耗的亲水性表面；

将清洁和保护组合物施加到所述亲水性外覆层的至少一部分；其中所述清洁和保护组合物包含：

亲水性硅烷；

表面活性剂；和

水；以及

干燥所述清洁和保护组合物以提供具有补充的亲水性表面的干燥表面。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述基底构件包括柔性基材。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述柔性基材包括膜。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述固化的聚合物基质包括有机聚合物基质。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述固化的聚合物基质包括(甲基)丙烯酸酯聚合物。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述无机纳米粒子选自氧化铝、氧化锑锡、碱式水杨酸铋、薄水铝石、碳酸钙、磷酸钙、二氧化铈、石墨烯、多水高岭土、硼化镧、碳酸锂、银、无定型二氧化硅、胶态二氧化硅、二氧化硅、二氧化钛、氧化锌、氧化锆、二氧化锆，以及它们的组合。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述亲水性外覆层包含磺酸根官能团、磷酸根官能团、膦酸根官能团、膦酸官能团、羧酸根官能团或它们的组合。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中所述亲水性外覆层由具有下面的式(I)或式(II)的两性离子型化合物形成：

(R¹O)_p-Si(R²)_q-W-N⁺(R³)(R⁴)-(CH₂)_m-SO₃^- (I)

(R¹O)_p-Si(R²)_q-CH₂CH₂CH₂-N⁺(CH₃)₂-(CH₂)_m-SO₃^- (II)

其中：

每个R¹独立地为氢、甲基基团或乙基基团；

每个R²独立地为羟基、(C1至C4)烷基基团和(C1至C4)烷氧基基团(优选地，甲基基团或乙基基团)；

每个R³和R⁴独立地为饱和或不饱和的、直链、支链或环状的有机基团(优选地具有20个碳原子或更少)，其可连接在一起，任选地与基团W的原子一起，形成环；

W为有机连接基团；

p为1至3的整数；

m为1至10的整数(优选地1至4)；

q为0或1；并且

p+q＝3。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述清洁和保护组合物具有至少1:1的所述亲水性硅烷与所述表面活性剂的重量比。