[发明专利]用于亚微米级反应室的电气动力装载的系统及方法

权利要求书

1.一种整合式装置，其包括：

反应室，其穿过该整合式装置的表面而形成；

至少一个导电层，其形成与该反应室相邻设置的至少一个电极，其中该至少一个电极在被偏压时产生辅助将样本装载至该反应室中的至少一个电场；

在该反应室下方在基板中的半导体区域；

光检测器，其形成于该半导体区域中；以及

导电互连件，其连接至该光检测器，其中该导电互连件是该至少一个导电层中的第一导电层。

2.如权利要求1所述的整合式装置，其进一步包括垂直地且与该反应室相邻地形成的导电通孔，其中该导电通孔将该至少一个导电层中的第一导电层连接至该反应室下方的导电互连件。

3.如权利要求1所述的整合式装置，其中该至少一个导电层包括：

第一导电层，其位于该整合式装置的该表面处；以及

第二导电层，其位于该表面下方且通过介电材料与该第一导电层分开，其中该反应室延伸穿过该第一导电层及该第二导电层。

4.如权利要求3所述的整合式装置，其中该第二导电层在横向方向上自该反应室延伸不多于三微米，不包含连接至该第二导电层的任何导电互连件。

5.如权利要求1所述的整合式装置，其中该反应室的最大尺寸小于一微米。

6.如权利要求1所述的整合式装置，其中该至少一个电极设置为产生电场，该电场在通向该反应室的开口的500nm内的第一区域中具有与该第一区域外部的第二区域相比增加的强度。

7.如权利要求1所述的整合式装置，其中该电场辅助装载来自在该反应室上方放置为与该表面接触的悬浮液的样本。

8.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该反应室被配置以保持仅一个样本以用于分析该样本。

9.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该反应室的底部在距光学波导一微米内终止。

10.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该至少一个导电层中的第一导电层被图案化以形成与该反应室相邻的两个电极，其中该两个电极在被偏压时产生主要横向定向的电场。

11.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该表面包括该至少一个导电层中的第一导电层的表面。

12.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该反应室延伸穿过该至少一个导电层中的一个或多个导电层。

13.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其进一步包括形成于该反应室的侧壁上且电耦合至该至少一个导电层中的第一导电层的导电材料。

14.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其进一步包括：

介电层，其形成于该至少一个导电层中的第一导电层与第二导电层之间；以及

该介电层中的开口，其与该反应室重迭，其中该介电层中的该开口的尺寸小于该反应室在该表面处的开口的尺寸。

15.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该至少一个导电层包括含有铝和/或钛的第一层，该第一层与含有氮化钛的第二层接触。

16.如权利要求1以及权利要求5至7中任一项所述的整合式装置，其中该反应室的底部表面与该至少一个导电层中的第一导电层之间的距离小于400nm。