[发明专利]从井筒去除垢质

权利要求书

1.一种方法，包括：

将超临界二氧化碳引导到井筒中到达指定深度；

在所述指定深度处将所述超临界二氧化碳引导到所述井筒的内表面处；以及

利用所述超临界二氧化碳从所述井筒的壁去除垢质。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，将所述超临界二氧化碳引导到所述井筒的壁上包括：

通过喷嘴引导。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述喷嘴是等熵喷嘴。

4.根据权利要求1所述的方法，还包括：

将所述超临界二氧化碳的相改变为二氧化碳的固相、液相或气相。

5.根据权利要求1所述的方法，还包括：

从所述井筒提取被去除的所述垢质。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述垢质是酸溶性垢质。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：

在提取被去除的所述垢质之后，利用凝胶清扫所述井筒。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括：

使储层流体在欠平衡状态下流动通过所述井筒。

9.一种通过超临界二氧化碳在井筒中执行的减少表皮效应的方法，所述方法包括：

行进通过位于井筒中的工作管柱到达所述井筒内的指定深度；

在所述指定深度冲击所述井筒的壁；以及

响应于所述超临界二氧化碳的冲击，减少对井筒的表皮效应。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，所述表皮效应包括垢质，所述方法还包括：

去除所述垢质。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，所述垢质是酸溶性垢质。

12.根据权利要求10所述的方法，还包括：

将去除的所述垢质升举到顶部设施。

13.根据权利要求9所述的方法，还包括：

将所述超临界二氧化碳的相变为二氧化碳的固相、液相和气相。

14.根据权利要求9所述的方法，还包括：

使储层流体在欠平衡状态下流动通过所述井筒。

15.一种方法，包括：

将超临界二氧化碳泵送到井筒中到达目标深度；

在所述井筒内的所述目标深度处将所述超临界二氧化碳喷射到所述井筒的壁上；

利用所述二氧化碳从所述井筒的壁去除垢质；以及

在去除所述垢质之后，利用凝胶清扫所述井筒。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，所述超临界二氧化碳通过等熵喷嘴被喷射。

17.根据权利要求15所述的方法，还包括：

将所述超临界二氧化碳的相改变为二氧化碳的固相、液相和气相。

18.根据权利要求15所述的方法，其中所述垢质是不溶性垢质。

19.根据权利要求15所述的方法，还包括：

使储层流体在欠平衡状态下流动通过所述井筒。

20.根据权利要求15所述的方法，其中，喷射所述超临界二氧化碳包括：

使所述超临界二氧化碳流动通过等熵喷嘴。