[发明专利]钛基材、钛基材的制造方法及水电解用电极、水电解装置有效
申请号: | 201980017686.6 | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN111918983B | 公开(公告)日: | 2023-01-13 |
发明(设计)人: | 佐野阳祐;大森信一 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | C23C28/04 | 分类号: | C23C28/04;C22C14/00;C25B1/04;C25B11/031;C25B11/063;C25B9/17;C25D11/26;C23C26/00;H01M4/86;H01M4/88;H01M8/10 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 刁兴利;康泉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基材 制造 方法 水电 用电 装置 | ||
1.一种钛基材,其特征在于,
具有由钛或钛合金构成的基材主体,
在该基材主体的表面形成有马格涅利相氧化钛皮膜,所述马格涅利相氧化钛皮膜由以化学式TinO2n-1表示的马格涅利相氧化钛构成,其中,4≤n≤10,
所述马格涅利相氧化钛皮膜在其膜内具有纳米或微米级的多孔结构,
在所述马格涅利相氧化钛皮膜中,包含X射线衍射中的Ti4O7及Ti5O9的XRD峰,两者的最大峰强度之和大于其他马格涅利相氧化钛的最大峰强度,所述其他马格涅利相氧化钛为6≤n≤10的马格涅利相氧化钛。
2.根据权利要求1所述的钛基材,其特征在于,
所述马格涅利相氧化钛皮膜的膜厚在0.1μm以上且30μm以下的范围内。
3.根据权利要求1或2所述的钛基材,其特征在于,
所述基材主体为气孔率在30%以上且97%以下的范围内的多孔体。
4.一种钛基材的制造方法,其特征在于,为权利要求1至3中任一项所述的钛基材的制造方法,所述钛基材的制造方法包括:
TiO2皮膜形成工序,在由钛或钛合金构成的基材主体的表面形成TiO2皮膜;及
还原处理工序,通过微波等离子体还原法对形成于所述基材主体的表面的TiO2皮膜进行还原,从而形成由马格涅利相氧化钛构成的马格涅利相氧化钛皮膜,所述马格涅利相氧化钛以化学式TinO2n-1表示,其中,4≤n≤10,
其中,还原处理工序在基板温度400℃以下、处理时间15分钟以下的条件下实施。
5.一种水电解用电极,其特征在于,
由权利要求1至3中任一项所述的钛基材构成。
6.根据权利要求5所述的水电解用电极,其特征在于,
在将以2.5V保持1分钟及以0V保持1分钟作为一次循环的伏安法试验中,进行1200次循环之后的电解效率相对于初始值为90%以上。
7.一种水电解装置,其特征在于,
具备权利要求5或6所述的水电解用电极。
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