[发明专利]控制系统和方法

权利要求书

1.一种用于控制激光器的控制系统，所述控制系统包括：

用于感测物理值的传感器，所述物理值指示由所述激光器发出的激光束的特性；

开关；

第一控制器和第二控制器，其中每个控制器被配置为：

接收设定点值；

从所述传感器接收又一传感器值；

基于所接收到的又一传感器值调整所接收到的设定点值以给出输出值；

使所述激光器根据所述输出值进行操作；

其中：

来自所述第一控制器的输出值不同于来自所述第二控制器的输出值；

所述开关被配置为在所述控制器之间进行切换，使得输出值以循环方式从每个控制器被提供；

所述控制器被配置为彼此通信；并且

由所述第二控制器对所述设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由所述第一控制器对所述设定点值进行的至少一个调整而被确定。

2.根据权利要求1所述的控制系统，其中所述激光器是脉冲激光器，并且所述开关被配置为以脉冲到脉冲为基础，在所述控制器之间进行切换。

3.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中所述激光器被配置为提供多于一种类型的输出。

4.根据权利要求3所述的控制系统，其中每个控制器被配置为控制来自所述激光器的相应类型的输出。

5.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中每个控制器包括限制器，所述限制器被配置为根据预定限制来调整所述输出值。

6.根据权利要求5所述的控制系统，其中每个控制器的所述限制器被配置为彼此通信。

7.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中每个控制器包括调谐单元，所述调谐单元被配置为基于所接收到的又一传感器值调整所述设定点值以给出所述输出值。

8.根据任一前述权利要求所述的控制系统，其中所述输出值被配置为控制所述激光器的能量剂量。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的控制系统，其中所述输出值被配置为控制由所述激光器发出的所述波长。

10.一种辐射源，包括激光器和根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中所述控制系统被配置为控制所述辐射源的所述激光器。

11.一种光刻系统，包括根据权利要求10所述的辐射源和光刻装置，所述光刻装置包括：

照明系统，用于调节由所述辐射源发出的辐射束；

支撑结构，用于支撑图案化装置，所述图案化装置用于向所述辐射束的横截面赋予图案；

衬底台，用于保持衬底；以及，

投影系统，用于将图案化的所述辐射束投影到所述衬底的目标部分上。

12.一种用于使用第一控制器和第二控制器控制激光器的参数的方法，所述方法包括：

在第一控制器和第二控制器之间循环，其中每个控制器执行以下步骤：

a)接收针对所述参数的设定点值；

b)从传感器接收又一传感器值；

c)基于所接收到的又一传感器值，调整所接收到的设定点值以给出输出值；

d)使所述激光器根据所述输出值进行操作；

其中所述控制器彼此通信，并且其中由所述第二控制器对所述设定点值进行的至少一个调整至少部分地通过由所述第一控制器对所述设定点值进行的至少一个调整而被确定。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述激光器是脉冲激光器，并且在所述控制器之间的所述循环是以脉冲到脉冲为基础。

14.根据权利要求12至13中任一项所述的方法，其中每个控制器进一步控制以下中的至少一项：

来自所述激光器的相应类型的输出；以及

根据预定限制的所述输出值。

15.根据权利要求12至14中任一项所述的方法，其中所述输出值被用于控制以下中的至少一项：

所述激光器的能量剂量；以及

由所述激光器发出的所述波长。