[发明专利]包括电离器的装置

权利要求书

1.一种装置，其包括电离器，所述电离器包括：

至少一个块体，其包括至少一种电子发射体材料并且被配置成能够至少部分地损耗；以及

加热单元，其被配置成对所述至少一个块体的至少一部分进行加热。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，所述电离器还包括至少一个电子发射体分配器，各电子发射体分配器被配置成使所述至少一个块体的有限部分露出。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述电子发射体分配器包括：

储存器，其被配置成保持所述至少一个块体；以及

推进机构，其被配置成使所述至少一个块体的有限部分露出，

其中，所述加热单元被配置成对所述至少一个块体的有限部分进行加热。

4.根据权利要求3所述的装置，其中，所述推进机构被配置成使所述至少一个块体的包括尖端的有限部分露出，以及所述加热单元被配置成对所述至少一个块体的尖端进行加热。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的装置，还包括：用于电子产生的模块化部件，其包括至少一个电子发射体分配器以及用于所述电子产生的发射控制的包含检测的电路。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的装置，其中，所述电离器还包括配备有单个孔或孔阵列的加速阳极板。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的装置，其中，所述电离器还包括利用所述至少一个块体所产生的电子对采样气体进行电离的电离区。

8.根据权利要求7所述的装置，其中，所述电离区包括阳极和磁场以形成长电子轨迹。

9.根据权利要求7或8所述的装置，其中，所述电离器还包括被配置成保持所述至少一个块体以防止所述采样气体的直接暴露的保持器。

10.根据权利要求7或8所述的装置，其中，所述电离器还包括被配置成保持所述至少一个块体以使得所述至少一个块体的一端指向所述电离区并且所述至少一个块体的另一端不指向所述电离区的保持器。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的装置，还包括滤质区，所述滤质区被设置在所述电离区的旁边。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其中，利用所述至少一种电子发射体材料的粉末对所述至少一个块体进行烧结或浸渍，以形成分布在所述至少一个块体中的大量纳米发射体。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的装置，其中，所述至少一个块体包括至少一个块阴极，所述至少一个块阴极包括与卷绕灯丝集成的块体。

14.根据权利要求1至13中任一项所述的装置，其中，所述至少一个块体包括柱状体、杆状体或线状体。

15.根据权利要求1至14中任一项所述的装置，还包括：操作单元，其被配置成以不同温度和/或不同电子能量来操作所述电离器。

16.一种方法，其包括使用电离器来对气体进行电离，所述电离器包括：至少一个块体，其包括至少一种电子发射体材料；以及加热单元，用于对所述至少一个块体的至少一部分进行加热，

其中，所述电离包括在允许所述至少一个块体的一部分损耗的情况下发射热电子。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述电离器还包括用于保持所述至少一个块体的至少一个电子发射体分配器，

其中，所述电离还包括使用所述至少一个电子发射体分配器来使所述至少一个块体的有限部分露出。