[发明专利]借助于分析颗粒的多孔介质定量化的方法及其用途在审
申请号: | 201980018045.2 | 申请日: | 2019-03-08 |
公开(公告)号: | CN111819432A | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | T·席梅尔 | 申请(专利权)人: | 拍特恩特普尔创新管理股份有限公司 |
主分类号: | G01N15/08 | 分类号: | G01N15/08;G01N33/24;G01V9/00;G01V9/02;G01K11/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 借助于 分析 颗粒 多孔 介质 量化 方法 及其 用途 | ||
1.一种用至少一种颗粒或者颗粒混合物使多孔介质定量化的方法,其中所述颗粒具有参考功能和至少一种报告功能,所述至少一种报告功能用于记录所述多孔介质的物理、化学或生物化学参数,所述方法包括以下步骤:
将所述颗粒和/或所述颗粒混合物引入流体中,
使具有所述颗粒和/或所述颗粒混合物的流体流经和/或渗透所述多孔介质,其中当超过或低于要记录的参数的阈值时,所述颗粒的至少一种报告功能改变,而所述颗粒的参考功能保持不变,和
在离开所述多孔介质之后,对所述颗粒和/或所述颗粒混合物进行所述颗粒的物理地、化学地或生物化学地改变的报告功能和所述参考功能的至少一种随后的分析,其中所述参考功能用于识别所述颗粒。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述颗粒的直径为100μm至0.5nm,特别优选直径为10μm至5nm,或者非常特别优选直径为5μm至50nm。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中所述颗粒的基体由银、金、铜或其它金属、二氧化硅、聚苯乙烯、烯烃、蜡或其混合物组成。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述至少一种报告功能包含在所述颗粒中和/或颗粒表面上,所述至少一种报告功能包括单独地或彼此组合的荧光标记、发光标记、用于等离子体性质的标记、pH值指示剂、温度指示剂、辐射指示剂的至少一种。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中所述至少一种报告功能的改变是不可逆的。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法,其中所述至少一种报告功能的改变随着经历的辐射的剂量(辐射暴露)或氧化应激而连续增加。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其中所述颗粒的参考功能是以几何和/或触觉检测部位的形式,或者以荧光标记、发光标记或用于等离子体性质的标记的形式。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述颗粒进一步具有另外的功能,所述另外的功能使得基于时间依赖性崩解或时间依赖性的性质改变来确定所述颗粒在所述多孔介质中的停留时间。
9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述颗粒进一步具有另外的磁性功能。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法,其中所述颗粒具有进一步的报告功能,所述进一步的报告功能在超过或低于与第一参数不同的要记录的第二参数的阈值时改变。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法,其中所述多孔介质是液体或气体填充的空间。
12.根据权利要求1至10中任一项所述的方法,其中所述多孔介质包括岩石、岩层和/或多孔材料或由该多孔材料制成的层。
13.根据权利要求1至12中任一项所述的方法,其中所述颗粒和/或所述颗粒混合物的分析通过光学光谱、IR光谱、等离子体共振、显微镜、剂量测定、核磁共振、电子自旋共振、ENDOR、荧光光谱、单分子荧光光谱、原子荧光光谱、发光光谱、光致发光光谱、色谱、气相色谱、液相色谱和/或高效液相色谱(HPLC)来进行,或者借助于促进报告功能改变的检测的后续反应来进行。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的方法,其用于在岩石、岩层和/或多孔材料或该多孔材料的层的地质分析中,在水文学、水勘探、矿床勘探、矿床监测、压裂、地热能、泄露监测中,在化学的、生物的和/或生物技术的反应器的监测中,在水箱、蓄水池和供水系统的监测中,或者在医学体内方法中,将岩石、岩层和/或多孔材料或该多孔材料的层定量化。
15.一种流体,其具有至少一种颗粒或颗粒的混合物,其用于医学体内方法中,其中所述颗粒具有参考功能和至少一种用于记录物理、化学或生物化学参数的报告功能。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拍特恩特普尔创新管理股份有限公司,未经拍特恩特普尔创新管理股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980018045.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:XUV和X射线衍射光学元件的制造方法
- 下一篇:视频码流中的取消标志指示