[发明专利]发光元件阵列和光计测系统在审

专利信息
申请号: 201980018986.6 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN111869021A 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 中村滋年;大野健一;村田道昭;石井努;三锅治郎 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;G01B11/24;G01C3/06;G06T1/00;H01L33/02;H01L33/58;H01S5/40
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 崔成哲;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 发光 元件 阵列 光计测 系统
【权利要求书】:

1.一种发光元件阵列,其具有:

发光元件组,其包含多个发光元件;以及

多个透镜,该多个透镜与所述多个发光元件对应地设置于所述多个发光元件的射出面侧,根据与所述多个发光元件之间的位置关系使来自所述多个发光元件的光偏转,

随着从所述发光元件组的中心侧朝向端部侧,所述多个发光元件的发光中心轴和与所述多个发光元件对应地设置的所述多个透镜的中心轴之间的距离变大,并且所述距离的变化程度变小。

2.根据权利要求1所述的发光元件阵列,其中,

所述发光元件组中的所述多个发光元件以预先规定的固定的间隔排列。

3.根据权利要求1所述的发光元件阵列,其中,

与所述多个发光元件对应地设置的所述多个透镜以预先规定的固定的间隔排列。

4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的发光元件阵列,其中,

所述发光元件组中的所述多个发光元件被二维排列。

5.根据权利要求4所述的发光元件阵列,其中,

在被二维排列的所述多个发光元件中的第1排列方向和与所述第1排列方向交叉的第2排列方向上,所述多个发光元件的所述发光中心轴和与所述多个发光元件对应的所述多个透镜的所述中心轴之间的距离的变化程度是不同的。

6.一种发光元件阵列,其具有:

发光元件组,其包含多个发光元件;以及

多个透镜,该多个透镜与所述多个发光元件对应地设置于所述多个发光元件的射出面侧,根据与所述多个发光元件之间的位置关系使来自所述多个发光元件的光偏转,

所述多个发光元件和所述多个透镜被配置成与如下情况相比,所述发光元件组的中心侧的光量降低,并且端部侧的光量增加,该情况是:设定成随着从所述发光元件组的所述中心侧朝向所述端部侧,所述多个发光元件的发光中心轴和与所述多个发光元件对应地设置的所述多个透镜的中心轴之间的距离变大,并且所述距离的变化程度随着从所述发光元件组的所述中心侧朝向所述端部侧呈线性变化的情况。

7.根据权利要求1~6中的任意一项所述的发光元件阵列,其中,

所述多个透镜以与所述射出面接触的方式设置在所述多个发光元件的各自的所述射出面上。

8.一种光计测系统,其具有:

权利要求1~7中的任意一项所述的发光元件阵列;

受光元件,其从被所述发光元件阵列照射光的对象物接收反射光;以及

处理部,其对与所述受光元件接收到的所述反射光有关的信息进行处理,计测从所述发光元件阵列到所述对象物的距离或计测所述对象物的形状。

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