[发明专利]放射性核素制造系统、存储了放射性核素制造程序的计算机可读存储介质、放射性核素制造方法、以及终端装置在审
申请号: | 201980019055.8 | 申请日: | 2019-03-01 |
公开(公告)号: | CN111868838A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 篠原厚;丰嶋厚史;张子见;神田晃充;市村聪一朗 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人大阪大学 |
主分类号: | G21G4/08 | 分类号: | G21G4/08 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 金雪梅;王秀辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放射性 核素 制造 系统 存储 程序 计算机 可读 介质 方法 以及 终端 装置 | ||
1.一种放射性核素制造系统,包含:
加热部,构成为包含导入载气的一端、和排出上述载气的另一端,并在内部储存保持了放射性核素的靶;
气体供给部,构成为包含与存积上述载气的气体存积部连接的一端、和与上述加热部的上述一端连接的另一端;
吸附部,构成为包含排出上述载气的另一端、和与上述加热部的上述另一端连接并导入上述载气的一端,并吸附上述放射性核素;
溶剂供给部,构成为包含与上述吸附部的上述另一端连接的端部;
存储部,构成为存储规定的指示命令;以及
控制部,构成为基于上述指示命令,控制上述加热部以保持于上述靶的上述放射性核素能够挥发的温度对上述靶进行加热,控制上述气体供给部以向上述加热部供给上述载气以便将在上述加热部挥发的上述放射性核素输送到上述吸附部,并控制上述溶剂供给部以向上述吸附部供给用于溶出吸附于上述吸附部的上述放射性核素的溶剂。
2.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
还包含加温部,该加温部配置为覆盖上述吸附部的一部分,并用于对通过上述载气输送的上述放射性核素进行加温。
3.根据权利要求2所述的放射性核素制造系统,其中,
上述控制部构成为控制上述加温部以将被上述加温部覆盖的上述一部分加温到上述溶剂不挥发的温度。
4.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
还包含吸入部,该吸入部包含与上述加热部连接的端部,并用于使上述加热部成为真空状态。
5.根据权利要求4所述的放射性核素制造系统,其中,
上述控制部构成为控制上述吸入部以使上述加热部成为真空状态。
6.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
还包含第一检测部,该第一检测部用于决定向上述吸附部供给上述溶剂的定时。
7.根据权利要求6所述的放射性核素制造系统,其中,
上述第一检测部配置在上述吸附部或者其附近,
上述控制部构成为基于由上述第一检测部检测出的放射线量,控制上述溶剂供给部以向上述吸附部供给上述溶剂。
8.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
还包含第二检测部,该第二检测部用于决定从上述气体供给部向上述吸附部供给排出气体的定时,以便向用于回收溶出有上述放射性核素的上述溶剂的回收部排出上述溶剂。
9.根据权利要求8所述的放射性核素制造系统,其中,
上述第二检测部配置在上述吸附部或者其附近,
上述控制部构成为基于由上述第二检测部检测出的放射线量,控制上述气体供给部以向上述吸附部供给上述排出气体。
10.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
上述靶为Bi(铋)。
11.根据权利要求1所述的放射性核素制造系统,其中,
上述放射性核素为211At(砹)。
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