[发明专利]制备整体式涂覆表面的方法

权利要求书

1.一种用于吸附化合物的载体，其包含：

支撑件；和

收缩配合的整体式主体，其附接于并包围所述支撑件的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体是多孔的。

3.根据权利要求1所述的载体，其中所述支撑件是杆。

4.根据权利要求1所述的载体，其中所述支撑件是磁体或聚合物涂覆的磁体。

5.根据权利要求1所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约0.5毫米的平均厚度。

6.根据权利要求5所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约0.75mm的平均厚度。

7.根据权利要求6所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约1.0毫米的平均厚度。

8.根据权利要求5所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体具有不大于约100毫米的平均厚度。

9.根据权利要求1所述的载体，其中所述收缩配合的整体式主体是聚合二乙烯基苯。

10.根据权利要求1所述的载体，其中所述支撑件的所述至少一部分是部分展平的。

11.一种系统，其用于测试样品中的化合物的存在，其包含：

载体，其包括：

支撑件；和

收缩配合的整体式主体，其附接于并包围所述支撑件的至少一部分；以及

容器，其包括用于容纳样品的空腔，其中所述收缩配合的整体式主体的大小经设定以适配在所述空腔内并且与所述样品接触。

12.根据权利要求11所述的系统，其中所述支撑件是杆。

13.根据权利要求11所述的系统，其中所述支撑件是磁体或聚合物涂覆的磁体。

14.根据权利要求11所述的系统，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约0.5毫米的平均厚度。

15.根据权利要求14所述的系统，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约0.75mm的平均厚度。

16.根据权利要求15所述的系统，其中所述收缩配合的整体式主体具有不小于约1.0毫米的平均厚度。

17.根据权利要求14所述的系统，其中所述收缩配合的整体式主体具有不大于约100毫米的平均厚度。

18.根据权利要求11所述的系统，其中所述收缩配合的整体式主体符合所述空腔的形状。

19.一种用于制造载体的方法，其包含：

将支撑件定位在空腔内；

用溶液填充所述空腔，所述溶液包括单体和引发剂混合物；

向所述溶液施加能量以使所述单体聚合以形成整料，其中整料在聚合和固化期间收缩，并且所述收缩将所述整料粘附到所述支撑件；并且

去除附有所述整料的所述支撑件。

20.根据权利要求19所述的方法，其中所述定位包括使所述支撑件在所述空腔内居中。

21.根据权利要求19所述的方法，其中所述溶液还包括致孔剂。

22.根据权利要求19所述的方法，其中所述能量包括热能或电磁能。