[发明专利]电解电容器在审
申请号: | 201980019329.3 | 申请日: | 2019-03-29 |
公开(公告)号: | CN111868863A | 公开(公告)日: | 2020-10-30 |
发明(设计)人: | 吉田敦 | 申请(专利权)人: | 日本贵弥功株式会社 |
主分类号: | H01G9/055 | 分类号: | H01G9/055;H01G9/035;H01G9/145 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 日本东京品川区大崎五丁目*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电解电容器 | ||
本发明提供一种通过提高静电电容的维持率而在高频区域具有大的静电电容的电解电容器。在100kHz以上的频率区域使用,且具有电极箔与电解液的电解电容器中,相对于120Hz下的静电电容,100kHz下的静电电容为50%以上。
技术领域
本发明涉及一种在高频区域使用的电解电容器。
背景技术
电解电容器是使电容器元件含浸在电解质中而成,电容器元件是使在铝等阀金属箔上形成介电体皮膜的阳极箔、与包括同种或其他金属的箔的阴极箔相向,并使阳极箔与阴极箔之间介隔隔板而构成。
电解电容器的静电电容与基材的表面积的大小成比例,与在其表面形成的介电体皮膜的厚度成反比例。通常,对电解电容器的电极箔实施蚀刻等扩面化处理,对实施了所述扩面化处理的扩面部实施化学合成处理,具有表面积大的介电体皮膜。蚀刻大多情况下主要使用电化学的方法。
专利文献1:日本专利特开平9-148200号公报
发明内容
发明所要解决的问题
近年来,即便在通常进行超过数十kHz的高频区域中的信息处理的数字设备中,使用电解电容器的例子也变多。即便在超过数十kHz的高频区域中,对电解电容器也要求静电电容。已知在超过数十kHz的高频区域中,电解电容器的静电电容与120Hz的低频区域中的静电电容相比而减少。认为所述现象的原因在于:由于蚀刻坑(etch-pit)长,在坑的深部使高速开关动作的响应性劣化,在高频区域,无助于在坑整体上表现静电电容。但是,电解电容器的静电电容以按照日本工业标准(Japanese Industrial Standard,JIS)C5101-1的4.7(静电电容)在作为低频区域的120Hz的频率区域中测定的静电电容为基准。另外,认为多个电解电容器的相对静电电容的大小关系不受频率限定而为一定。因此,认为例如在100kHz的高频区域中使用的多个电解电容器的静电电容的大小关系与120Hz的频率区域中的静电电容的大小关系相同。
不仅在低频区域,电解电容器的使用区域也扩大至数十kHz以上的高频区域,在高频区域也要求静电电容,且要求在超过数十kHz的高频区域也表现出更高的静电电容的电解电容器。
为了解决所述现有技术的问题点,本发明在于提供一种在高频区域具有大的静电电容的电解电容器。
解决问题的技术手段
本发明人进行努力研究,结果获得如下见解:即便是在120Hz下静电电容差的电解电容器,只要100kHz的静电电容相对于120Hz的静电电容的电容维持率为50%以上,则在数十kHz以上的频率区域中使用时,作为电解电容器而电容的优劣也会反转,成为高静电电容。
因此,为了实现所述目的,本发明的电解电容器是具有电极箔与电解液的电解电容器,其特征在于:100kHz下的静电电容相对于120Hz下的静电电容为50%以上。
所述100kHz下的静电电容相对于120Hz下的静电电容可为65%以上。
所述电容器可在100kHz以上的频率区域中使用。
另外,作为电解电容器的电解液,可以乙二醇为主体。
进而,电极箔可为铝箔。
发明的效果
根据本发明,通过提高低频区域至高频区域中的电解电容器的电容维持率,即便在高频区域也可实现大的静电电容。
附图说明
图1是表示在实施例1中各电解电容器的频率与静电电容的关系的图表。
图2是表示在实施例2中各电解电容器的时间经过与壳底的隆起量的关系的图表。
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