[发明专利]无机EL元件、显示元件、图像显示装置和系统在审

专利信息
申请号: 201980019977.9 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN111886932A 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 植田尚之;中村有希;安部由希子;松本真二;曾根雄司;早乙女辽一;新江定宪;草柳岭秀;安藤友一 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: H05B33/14 分类号: H05B33/14
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金鲜英;钟海胜
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 无机 el 元件 显示 图像 显示装置 系统
【权利要求书】:

1.一种无机EL元件,包括:

阳极;

空穴传输层;

发光层;

电子传输层;和

阴极,

所述阳极、所述空穴传输层、所述发光层、所述电子传输层和所述阴极层叠置,

其中,所述空穴传输层是氧化物膜,

所述发光层是氧化物膜,并且

所述电子传输层是氧化物膜。

2.根据权利要求1所述的无机EL元件,

其中,作为所述空穴传输层的氧化物膜是p型氧化物半导体。

3.根据权利要求1或2所述的无机EL元件,其中,

其中,作为所述电子传输层的氧化物膜是n型氧化物半导体。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述发光层的氧化物膜由掺杂有发光中心的氧化物形成。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述空穴传输层的氧化物膜是掺杂有发光中心的p型氧化物半导体并且起发光层的作用。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述电子传输层的氧化物膜是掺杂有发光中心的n型氧化物半导体并且起发光层的作用。

7.根据权利要求4至6中任一项所述的无机EL元件,

其中,所述发光中心是过渡金属离子或稀土离子。

8.根据权利要求4至7中任一项所述的无机EL元件,

其中,所述发光中心包括选自由钛(Ti)、铬(Cr)、锰(Mn)、铜(Cu)、钨(W)、铈(Ce)、镨(Pr)、钕(Nd)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)和镱(Yb)所组成的组中的至少一种。

9.根据权利要求4至6中任一项所述的无机EL元件,

其中,在作为所述发光层的氧化物膜中,带隙能等于或高于所述发光中心的激发能的氧化物是所述发光中心的主体。

10.根据权利要求4至6中任一项所述的无机EL元件,

其中,在作为所述发光层的氧化物膜中,带隙能等于或高于所述发光中心的发光能量的氧化物是所述发光中心的主体。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述发光层的氧化物膜是包括选自由铍(Be)、镁(Mg)、钙(Ca)、锶(Sr)、钡(Ba)、钪(Sc)、钇(Y)、镧(La)、镥(Lu)、硼(B)、铝(Al)、镓(Ga)、硅(Si)、锗(Ge)、锑(Sb)、铋(Bi)和碲(Te)所组成的组中的至少一种的氧化物。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述空穴传输层的氧化物膜是包括选自由镍(Ni)、铜(Cu)、锌(Zn)、钌(Ru)、铑(Rh)、铊(Tl)、锡(Sn)、铅(Pb)、锑(Sb)、铋(Bi)和碲(Te)所组成的组中的至少一种的p型氧化物半导体。

13.根据权利要求1至12中任一项所述的无机EL元件,

其中,作为所述电子传输层的氧化物膜是包括选自由锌(Zn)、镉(Cd)、镓(Ga)、铟(In)、铊(Tl)、锗(Ge)、锡(Sn)、铅(Pb)、铋(Bi)、钛(Ti)和钨(W)所组成的组中的至少一种的n型氧化物半导体。

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