[发明专利]使用能量脉冲的表面纹理化

权利要求书

1.一种系统，包括：

聚焦系统；

能量源，所述能量源被配置成向所述聚焦系统输出能量脉冲；

腔室，所述腔室围绕金属基板的至少一部分，并且所述腔室容纳与所述金属基板的表面接触的液体；以及

控制器，所述控制器被配置成：

使所述能量源向所述聚焦系统输出能量脉冲；以及

使所述聚焦系统在与所述液体接触的所述金属基板的所述表面处或附近聚焦所述能量脉冲的聚焦体积，以在所述金属基板上创建微米尺度或更小的表面纹理化。

2.如权利要求1所述的系统，其特征在于，所述能量脉冲导致与所述液体接触的所述金属基板的所述表面的表面化学成分的修改。

3.如权利要求2所述的系统，其特征在于，所述能量脉冲导致与所述液体接触的所述金属基板的所述表面的氧化。

4.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述液体包括以下各项中的至少一项：水、过氧化氢、氢氧化铵、胺、酒精、硅油、乙酸、羧酸、无机酸、酮、酯、和有机流体。

5.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述能量源被配置成输出具有飞秒或皮秒持续时间的所述能量脉冲。

6.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，进一步包括所述金属基板，其中所述金属基板是医疗设备的电极。

7.如权利要求6所述的系统，其特征在于，所述控制器被配置成：使所述能量源纹理化位于同一金属基板上的不止一个电极，以通过使用不同液体和不同能量源参数中的至少一者来创建三维电极表面。

8.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，在所述能量脉冲在所述金属基板上创建微米尺度或更小的表面纹理化之前，在所述金属基板的所述表面处或附近形成宏观尺度或微米尺度的结构，以在所述金属基板的所述表面处或附近创建微米尺度和纳米尺度的特征的组合。

9.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述控制器被配置成：使所述聚焦系统改变所述聚焦体积相对于所述金属基板的扫描速度，以改变在所述金属基板上的所述表面纹理化的深度。

10.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述控制器被配置成：使所述聚焦体积和所述金属基板以光栅图案来相对于彼此移动，所述光栅图案具有在1微米(μm)到500μm之间范围内的线间距。

11.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述控制器被配置成：使所述能量源控制所述能量脉冲的持续时间。

12.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，所述控制器被配置成：使所述能量源输出具有在0.01焦耳每平方厘米(J/cm²)到50J/cm²之间的能量强度范围的所述能量脉冲。

13.如权利要求1到3中任一项所述的系统，其特征在于，能量脉冲导致与所述液体接触的所述金属基板的所述表面以非均匀的图案被纹理化。