[发明专利]光学器件有效
申请号: | 201980020685.7 | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN111886441B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | K.林科 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | F21K9/20 | 分类号: | F21K9/20;F21V5/04;F21V8/00;F21V13/12;F21V19/00;F21Y115/10 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈蕴辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 器件 | ||
1.一种光学器件,其特征在于,所述光学器件具有:
没有图案的导光层;以及
内耦合光学系统,所述内耦合光学系统与所述导光层一体地设置,将来自光源的光耦合到所述导光层的入射边缘,并具有朝向所述入射边缘凸出的光学元件和设置在所述光学元件和所述入射边缘之间的空气腔;
低折射率层,其设置在所述导光层的光提取侧;
图案层,其设置在所述低折射率层上,并埋入有空腔。
2.如权利要求1所述的光学器件,其特征在于,
所述内耦合光学系统具有沿着所述入射边缘排列的多个所述光学元件,所述光学元件的凸部的顶点与成为均匀的平面的所述入射边缘接触。
3.如权利要求2所述的光学器件,其特征在于,
多个所述光学元件的与所述凸部相反的一侧的面是连续的平面。
4.如权利要求1~3中任一项所述的光学器件,其特征在于,
所述内耦合光学系统利用光学粘接剂粘接于所述入射边缘,或者与所述导光层一体形成。
5.如权利要求1~3中任一项所述的光学器件,其特征在于,
所述光学元件的折射率与所述导光层的折射率相同或接近。
6.如权利要求1所述的光学器件,其特征在于,
所述图案层具有的所述空腔为离散或者至少部分连续的光学图案。
7.一种光内耦合光学系统,与没有图案的光导构成一体,其特征在于,
所述光内耦合光学系统具有至少一个光学腔图案,
所述光学腔图案在二维面内的横向和纵向中的至少一方对向所述光导入射的光进行准直,所述横向的光束的均匀性根据所述光导的外耦合结构来调整,
所述外耦合结构包括:低折射率层,其设置在所述光导的光提取侧;图案层,其设置在所述低折射率层上,并埋入有空腔。
8.如权利要求7所述的光内耦合光学系统,其特征在于,
所述光学腔图案具有平面球透镜型、带有圆角的边缘型或带有圆角的球透镜型的截面形状。
9.如权利要求7或8所述的光内耦合光学系统,其特征在于,
所述光学腔图案与所述光导一体形成或粘接在一起。
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