[发明专利]粗糙化处理铜箔、带载体铜箔、覆铜层叠板及印刷电路板有效

专利信息
申请号: 201980020819.5 申请日: 2019-03-20
公开(公告)号: CN111886367B 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 加藤翼;松田光由;饭田浩人;高梨哲聪;吉川和广 申请(专利权)人: 三井金属矿业株式会社
主分类号: C25D7/06 分类号: C25D7/06;B32B15/04;C25D5/10;C25D5/16;C25D1/04
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 粗糙 处理 铜箔 载体 层叠 印刷 电路板
【权利要求书】:

1.一种粗糙化处理铜箔,其在至少一侧具有粗糙化处理面,所述粗糙化处理面具备多个粗糙化颗粒而成,

所述粗糙化处理铜箔的长度10μm的截面中的所述粗糙化颗粒的单位为μm的周长L的平方相对于所述粗糙化颗粒的单位为μm2的面积S之比L2/S的平均值为16以上且30以下,并且,所述粗糙化处理面的微观不平度十点高度Rz为0.7μm以上且1.7μm以下。

2.根据权利要求1所述的粗糙化处理铜箔,其中,所述比L2/S为19以上且27以下。

3.根据权利要求1或2所述的粗糙化处理铜箔,其中,所述粗糙化处理铜箔的长度10μm的截面中的所述粗糙化颗粒的个数为20个以上且70个以下。

4.根据权利要求1或2所述的粗糙化处理铜箔,其用于将凹凸形状转印至印刷电路板用的绝缘树脂层。

5.根据权利要求1或2所述的粗糙化处理铜箔,其用于基于半加成法SAP的印刷电路板的制作。

6.一种带载体铜箔,其具备:载体、设置于该载体上的剥离层、和以所述粗糙化处理面为外侧的方式设置于该剥离层上的权利要求1~5中任一项所述的粗糙化处理铜箔。

7.一种覆铜层叠板,其具备权利要求1~5中任一项所述的粗糙化处理铜箔或权利要求6所述的带载体铜箔。

8.一种印刷电路板,其是使用权利要求1~5中任一项所述的粗糙化处理铜箔或权利要求6所述的带载体铜箔而得到的。

9.一种印刷电路板的制造方法,其特征在于,使用权利要求1~5中任一项所述的粗糙化处理铜箔或权利要求6所述的带载体铜箔来制造印刷电路板。

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