[发明专利]成像装置和电子设备有效
申请号: | 201980021142.7 | 申请日: | 2019-03-15 |
公开(公告)号: | CN111886541B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 木村胜治;高森丽;关大一 | 申请(专利权)人: | 索尼半导体解决方案公司 |
主分类号: | G03B5/00 | 分类号: | G03B5/00;G02B7/02;G02B7/04;G02B7/08;A61B17/94;G03B30/00 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 梁兴龙;曹正建 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 成像 装置 电子设备 | ||
本发明涉及能够高精确地调整焦点位置和相机抖动校正位置的成像装置和电子设备。所述装置包括:将被摄体光集光的透镜;对来自所述透镜的被摄体光进行光电转换的成像元件;电路基板,其包括向外部输出来自所述成像元件的信号的电路;致动器,其在X轴方向、Y轴方向或Z轴方向中的至少一个方向上利用脉冲宽度调制(PWM)波形来驱动所述透镜;和检测单元,其检测由所述致动器中包括的线圈所产生的磁场。所述致动器驱动所述透镜以移动焦点或者驱动所述透镜以降低相机抖动的影响。本发明可以应用于成像装置。
技术领域
本技术涉及成像装置和电子设备,例如,涉及能够高精度地控制透镜的位置的成像装置和电子设备。
背景技术
近年来,例如,成像装置的像素数量的增加、高性能化和小型化正在发展。随着成像装置的像素数量的增加和高性能化,成像装置中安装的诸如电荷耦合器件(CCD)传感器或互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器等成像元件的功耗增大了。
此外,由于驱动透镜焦点的致动器等的功耗也增大,因此成像装置的功耗也趋于增大。
为了降低功耗,已经设计出一种方法,其中将致动器的驱动信号制成脉冲宽度调制(PWM)波形以将功耗抑制到大约一半。然而,已知的是,当致动器由PWM驱动来驱动时,产生磁场,其是成像元件的干扰因素,并且噪声被混入。
为了降低噪声,已经设计出通过使成像元件的驱动波形与生成PWM信号的自动对焦驱动器同步并且在成像元件的驱动时间期间在死区中输出PWM波形来降低噪声。
此外,作为成像装置中的高性能化之一,为了不断地检测透镜的焦点位置并将透镜快速移动到对被摄体光进行集光的位置,还已经设计出在致动器中安装诸如霍尔元件等用于位置检测的元件,并且透镜的位置向外部输出。
例如,在专利文献1中,已经设计出通过利用来自对焦驱动电路的PWM信号去控制驱动元件(致动器)以驱动透镜而改变透镜的焦点来实现自动对焦。此外,在专利文献1中,已经设计出安装霍尔元件以用于高性能透镜的位置检测。
在专利文献2中,已经设计出通过包括金属板来遮断(屏蔽)磁场来降低由于利用PWM驱动来驱动致动器而产生的磁场所引起的成像元件的噪声。
在专利文献3中,已经设计出根据被配置成面对励磁功率的检测线圈的电动势,利用PWM信号(AC信号)来检测透镜的位置。在该设计中,已经设计出将检测线圈安装在动作的透镜侧,并且在励磁线圈和检测线圈平行移动的情况下从电动势电流的相位执行位置检测。
引用文献列表
专利文献
专利文献1:日本特开2011-022563号公报
专利文献2:日本特开2014-082682号公报
专利文献3:日本特开2000-295832号公报
发明内容
发明要解决的问题
根据专利文献1,需要安装霍尔元件,并且致动器变大,这使得小型化困难。此外,由于必须安装霍尔元件,因此还存在成像装置变得昂贵的担忧。
根据引用文献2,由于金、银、铜、铝等被用作用于遮断磁场的金属板,因此存在成像装置变得昂贵的担忧。此外,即使设置了用于遮断磁场的金属板,这也对成像装置的小型化没有贡献。
近年来的致动器均具有如下结构:在透镜的外侧配置有线圈,根据励磁功率将线圈移动到垂直于成像元件的一侧,并且执行焦点检测。当将引用文件3应用于这种结构时,励磁线圈和检测线圈被配置为彼此面对,并且不能通过平行移动来检测透镜的位置。即,难以将引用的文献3应用于近年来的致动器。
鉴于这种情况而做出了本技术,并且使得可以提供一种能够高性能化、低功耗和小型化的成像装置。
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