[发明专利]用于测定设备的反应井孔有效
申请号: | 201980021278.8 | 申请日: | 2019-03-22 |
公开(公告)号: | CN112041068B | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 托马斯·H·考利三世 | 申请(专利权)人: | 达丽斯生物医学公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李慧慧;杨明钊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 测定 设备 反应 | ||
1.一种装置,所述装置包括:
(a)公共流体源;
(b)多个独立的连续流控路径,每个独立的连续流控路径包括:
(i)样品腔室,所述样品腔室连接到所述公共流体源,所述样品腔室具有流体体积并且包括测定腔室和进入导管,其中,所述测定腔室具有测定腔室体积,并且其中,所述进入导管将所述公共流体源连接到所述测定腔室;和
(ii)气动隔室,所述气动隔室连接到所述样品腔室,所述气动隔室具有气动体积;以及
(c)第一膜,所述第一膜粘附到所述装置的至少一部分的表面,其中,所述第一膜形成每个流控路径的所述进入导管的一个壁;以及
(d)第二膜,所述第二膜粘附到所述第一膜,其中,所述第二膜具有比所述第一膜高的熔化温度,
其中,除了所述样品腔室和所述公共流体源之间的连接之外,每个流控路径是封闭系统,并且其中,对于所述多个流控路径中的每个流控路径,所述流体体积与所述气动体积的比率基本上相等。
2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述多个流控路径中的第一流控路径的流体体积大于所述多个流控路径中的第二流控路径的流体体积。
3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述气动隔室包括空气腔室和气动导管,其中,所述气动导管将所述样品腔室连接到所述空气腔室。
4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述测定腔室包括:
双锥形腔室,所述双锥形腔室包括:
锥形入口,所述锥形入口与所述流控路径的所述进入导管的末端流体连通;
锥形出口,所述锥形出口与所述气动隔室的末端流体连通,其中,所述锥形入口和所述锥形出口被所述测定腔室体积的最大尺寸分开;以及
两个弯曲边界,每个弯曲边界从所述锥形入口延伸到所述锥形出口,所述两个弯曲边界一起包围所述测定腔室体积,其中,每个弯曲边界包括中点,并且其中,所述两个弯曲边界之间的距离随着所述边界从所述中点朝向所述锥形入口弯曲和从所述中点朝向所述锥形出口弯曲而减小。
5.根据权利要求4所述的装置,其中,所述双锥形腔室的所述两个弯曲边界相对于所述测定腔室体积的中心点是凹的。
6.根据权利要求4所述的装置,其中,所述双锥形腔室是整体式的。
7.根据权利要求1所述的装置,其中,所述测定腔室包括形成在整体式基体中的第一边界表面和由塞子形成的第二边界表面,所述塞子包括主体和盖,所述主体以一深度伸入到所述整体式基体中,其中,所述塞子的所述盖形成所述测定腔室的所述第二边界表面。
8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述测定腔室包括由膜形成的第三边界表面,其中,所述第一边界表面、所述第二边界表面和所述第三边界表面一起包围所述测定腔室体积。
9.根据权利要求7所述的装置,其中,形成在所述塞子的所述盖中的内部腔体包含一种或更多种干燥试剂。
10.根据权利要求7所述的装置,其中,所述测定腔室体积至少部分地取决于所述塞子的所述主体伸入所述测定腔室的所述整体式基体内的深度。
11.根据权利要求7所述的装置,其中,所述塞子是透明的。
12.根据权利要求1所述的装置,其中,所述测定腔室体积介于1μL和35μL之间。
13.根据权利要求1所述的装置,还包括位于每个流控路径的所述测定腔室内的磁性混合元件,其中,所述磁性混合元件能够回转。
14.根据权利要求13所述的装置,其中,所述磁性混合元件的回转由位于所述测定腔室外部的磁体的旋转引起。
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